[实用新型]一种湿法刻蚀的切水装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种湿法刻蚀的切水装置。

背景技术

风刀在湿法刻蚀设备上使用非常普遍。晶体硅太阳能电池硅片主要通过湿法刻蚀完成边缘绝缘化，它通常由一系列槽体模块连接而成，依次为氢氟酸槽1-风刀-刻蚀槽-喷淋-风刀-碱槽-风刀-喷淋-风刀-氢氟酸槽2-风刀-喷淋-风刀。风刀主要用吹掉硅片表面的残液，实现相邻槽化学反应的隔离，避免硅片表面发生污染。不过，采用风刀装置实现化学药液的隔离仍存在一定的严重缺陷，如压缩空气高压吹扫下硅片受力不均易破碎，碎硅片又会造成后面的硅片前进受阻而发生堵片，进一步加剧了碎片的数量。因此，必须对切水装置进行改造来减少碎片数量。

实用新型内容

实用新型目的：本实用新型的目的在于针对目前现有技术中的不足，提出一种湿法刻蚀的切水装置。

技术方案：为实现上述实用新型目的，本实用新型采用如下的技术方案：

一种湿法刻蚀的切水装置，其特征在于：所述切水装置包括至少一对上下垂直安装的滚轮，所述滚轮整体外径相同，所述上下滚轮之间留有间隙，所述滚轮的两端安装有卡槽，所述上下滚轮的转动方向相反，转动速率相同，所述切水装置水平方向至少设有一个滚轮，所述水平方向的滚轮间的间距相等。上滚轮和下滚轮安装时保持中心线垂直，上滚轮和下滚轮的转动方向相反，均与硅片前进方向一致。

所述滚轮为圆柱形平滑滚轮。

所述上下滚轮之间的间隙为0.2-0.5mm。一般硅片的厚度为大约有0.2 mm，滚轮安装于硅片的两侧，间隙为0.2-0.5mm，既能充分让滚轮将硅片表面残液挤掉，又恰好让硅片通过。保证了硅片经过时不会打滑。

所述滚轮外径表面设有凹凸结构或设有多孔软泡沫层，所述泡沫层厚度均匀。

所述水平方向的滚轮间的间距≤4cm。

所述滚轮的外径≤4cm。

所述凹凸结构包括微孔结构、浅沟槽结构。

所述微孔结构的开口宽度≤1mm，所述浅沟槽结构的深度≤0.5mm。

所述滚轮的材质为高分子材料，包括PVDF。切水滚轮采用高强度、耐强酸和强碱的高分子材料加工，包括但不限于PVDF材质。PVDF材质，强度高，耐酸碱，使用寿命长。

所述泡沫层的材质为高分子材料，包括PP、PVC。泡沫层采用高分子材料，其化学性能稳定，耐强酸和强碱，且韧性好，包括但不限于PP、PVC等材料。

有益效果：采用上述技术方案的本实用新型具有以下优点：

本实用新型的湿法刻蚀的切水装置，相较于现有的湿法刻蚀采用的风刀切水装置而言，具有以下优点：

（1）切水滚轮不需要压缩空气，硅片无压力，大大降低了碎片及堵片的风险；

（2）硅片表面的药液受到滚轮的阻挡，从硅片表面流入下槽，不会带入后面的槽体内，实现了化学反应的隔离；

（3）柱形切水滚轮表面一定的微结构处理，或者借助外面包裹一层多孔状泡沫，保证了硅片经过时不会打滑；

（4）本实用新型所述的滚轮，主体采用PVDF板材加工而成，强度高，耐酸碱，使用寿命长的优点。

附图说明

图1为本实用新型实施例的结构示意图；

图2为传统的风刀切水装置示意图；

图中：1-凹凸结构或泡沫层、2-上滚轮、3-上传动齿轮、4-硅片、5-下滚轮、6-下传动齿轮。      

具体实施方式

以下结合附图及具体实施例对本实用新型做进一步阐述。

图1为本实用新型的结构示意图，主要由1-凹凸结构或泡沫层、2-上滚轮、3-上传动齿轮、5-下滚轮、6-下传动齿轮构成。

图2为传统的风刀切水装置示意图，图中的CDA是指干净干燥压缩空气。

实施例1;

一种湿法刻蚀的切水装置，其特征在于：一对上下垂直安装的圆柱形平滑滚轮滚轮，所述滚轮整体外径相同，所述上、下滚轮2、5之间留有0.3mm的间隙，所述上、下滚轮2、5对称的分布于硅片4的上下两侧，所述滚轮的两端安装有卡槽，所述上、下滚轮2、5分别装有上、下传动齿轮3、6，所述的上、下传动齿轮3、6转动方向相反，转动速率相同，所述切水装置水平方向至少设有一个滚轮，所述水平方向的滚轮间的间距相等约为3.8cm，所述滚轮外径表面设有开口宽度为0.9mm的微孔结构1，所述滚轮的外径3.8cm。

实施例2：