[实用新型]半导体发光器件有效
申请号: | 201320746056.2 | 申请日: | 2013-11-21 |
公开(公告)号: | CN203589070U | 公开(公告)日: | 2014-05-07 |
发明(设计)人: | 宋超;王江波;刘榕 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(苏州)有限公司 |
主分类号: | H01L33/38 | 分类号: | H01L33/38;H01L33/20 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 215600 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 发光 器件 | ||
1.一种半导体发光器件,所述半导体发光器件包括:衬底(103)、设于所述衬底(103)上的外延层(102)、以及设于所述外延层(102)上的电极(101),其特征在于,所述衬底(103)上开设有贯穿所述衬底(103)的容置孔(104),所述容置孔(104)内设有与所述外延层(102)电性连接的导电件,所述外延层(102)包括依次向上生长于所述衬底(103)上的第一半导体层(107)、发光层(106)和第二半导体层(105),所述第一半导体层(107)为N型层,所述第二半导体层(105)为P型层。
2.根据权利要求1所述的半导体发光器件,其特征在于,所述衬底(103)为蓝宝石衬底、硅衬底、碳化硅衬底或绝缘金属衬底。
3.根据权利要求1所述的半导体发光器件,其特征在于,所述衬底为图形化衬底、蒸镀有分布式布拉格反射镜或全方位反射镜的衬底、倒三角形衬底或内置反光空腔的衬底。
4.根据权利要求1所述的半导体发光器件,其特征在于,所述外延层(102)还包括:设于所述衬底(103)和所述第一半导体层(107)之间的缓冲层(108)。
5.根据权利要求4所述的半导体发光器件,其特征在于,所述外延层还包括不掺杂层(109),所述不掺杂层(109)位于所述缓冲层(108)和所述衬底(103)之间。
6.根据权利要求5所述的半导体发光器件,其特征在于,所述容置孔(104)的深度大于所述衬底(103)的厚度。
7.根据权利要求6所述的半导体发光器件,其特征在于,所述容置孔(104)贯穿所述不掺杂层(109)和所述缓冲层(108)。
8.根据权利要求1-7任一项所述的半导体发光器件,其特征在于,所述导电件为金属导电件。
9.根据权利要求1-7任一项所述的半导体发光器件,其特征在于,所述半导体发光器件为发光二极管、激光二极管或超辐射发光二极管。
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