[实用新型]一种承载砷化镓晶棒表面喷砂的运动装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种半导体材料制备装置，特别是一种用于承载砷化镓晶棒进行表面喷砂处理的运动装置。

背景技术

砷化镓是目前III—V族化合物半导体中的领军材料，应用相当广泛。砷化镓目前已经成为一种重要的微电子和光电子基础材料，广泛应用于第三代移动通讯、光纤通讯、汽车电子、卫星通讯和全球定位系统等领域。

砷化镓单晶生长的方法通常分为水平法生长和垂直法生长，水平法生长的单晶其截面通常是“D”形，而垂直法生长的单晶其截面通常为圆形。工业大规模生产砷化镓单晶均采用两步法，即先合成出砷化镓多晶，然后对多晶处理后进行单晶生长。砷化镓多晶均采用水平法合成，这是单晶生长的主要原料，此多晶的截面为“D”形。另外，单晶加工后的头尾料和成份不好的头尾料再次铸锭后的多晶料，均可作为单晶生长的原料。

对砷化镓原料进行表面处理后，即可进行备料、装炉、单晶生长。表面处理分为喷砂和腐蚀清洗，对于表面氧化的合成多晶、铸锭多晶和单晶头尾料，需要进行表面喷砂处理，再进行腐蚀清洗，然后进行单晶生长。表面带氧化层的原料如果直接进行单晶生长，会严重影响单晶质量，而腐蚀清洗很难去除表面氧化层，因此对晶棒的表面进行喷砂处理非常重要。

一般的喷砂机使用水和压缩空气混合金刚砂进行喷砂，喷嘴位置固定，喷砂箱内没有可以承载晶棒运动的小车装置，需要操作人员通过喷砂机的手套箱双手托住晶棒，然后前后左右移动晶棒进行喷砂处理。一根晶棒的重量可达5～10kg多，长时间托住晶棒进行表面喷砂处理，使得操作人员工作强度很大，而且晶棒表面喷砂处理不均匀，生产效率低下，因此现有的晶棒承托方式急需改进。

实用新型内容

鉴于上述问题，本实用新型的目的是提供一种承载砷化镓晶棒进行表面喷砂处理的运动装置，采用此装置可以解决晶棒表面喷砂处理不均匀的问题，并且可以降低工作劳动强度，减少人力成本，提高生产效率。

为实现上述目的，本实用新型采取以下技术方案：

一种承载砷化镓晶棒表面喷砂的运动装置，它包括由下至上依次设置的底座、滑车以及承载车；

该底座包括两条平行的第一导轨；

该滑车滑动设于该第一导轨上，该滑车顶部设有两条平行的第二导轨，该第二导轨方向与该第一导轨方向垂直；

该承载车滑动设于该第二导轨上，且顶部具有与晶棒形状相对应的半圆型凹部。

进一步的，所述第一导轨两端各通过第一连接板连接，且该第一连接板突出于该第一导轨表面。

进一步的，所述第二导轨两端各通过第二连接板连接，且该第二连接板突出于该第二导轨表面。

进一步的，所述凹部设有均匀分布的孔眼。

优选的，所述凹部为不锈钢，亦可采用其它材料。

本实用新型的有益效果是：本实用新型的运动装置承载晶棒进行喷砂处理时，可以前后左右自由运动，而且可以使晶棒表面处理均匀，能方便快捷完成表面喷砂处理，提高生产效率。

附图说明

图1为本实用新型的俯视图。

图2为本实用新型的主视图。

图3为本实用新型的侧视图。

图4为本实用新型实际应用的俯视图。

图5为本实用新型实际应用的主视图。

图6为本实用新型实际应用的侧视图。

具体实施方式

以下将以具体实施例结合附图来说明本实用新型的结构和所欲达到的技术效果，但所选用的实施例仅用于说明解释，并非用以限制本实用新型的范围。

如图1至3所示，本实用新型提供一种承载砷化镓晶棒表面喷砂的运动装置，它包括由下至上依次设置的底座1、滑车2以及承载车3。其中该底座1包括两条平行的第一导轨11，用于支撑该滑车2。而该滑车2滑动设于该第一导轨11上，可以沿着该第一导轨11自由移动。该滑车2顶部设有两条平行的第二导轨21，用于支撑该承载车3。

该承载车3滑动设于该第二导轨21上，可以沿着该第二导轨21自由移动。又因该第二导轨21方向与该第一导轨11方向垂直，所以使得该承载车3可以在二维方向上自由移动。该承载车3顶部具有与晶棒形状相对应的半圆型凹部31，以放置晶棒进行喷砂作业。该凹部31优选为不锈钢，设有均匀分布的孔眼，防止喷砂过程中，堆积砂子和水，影响工作效率。实际中，使用均匀分布孔眼的不锈钢板弯曲成半圆型，直径大于砷化镓晶棒的直径5～10mm。