[实用新型]测量标记有效
申请号: | 201320717895.1 | 申请日: | 2013-11-14 |
公开(公告)号: | CN203553154U | 公开(公告)日: | 2014-04-16 |
发明(设计)人: | 岳力挽;蔡博修 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | H01L23/544 | 分类号: | H01L23/544;G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测量 标记 | ||
1.一种测量标记,用于晶片在扫描电子显微镜下的测量,其特征在于,包括:
四个第一标记,所述第一标记位于一曝光单元外的四个顶角处;
第二标记,位于所述曝光单元外的一个顶角处,所述第二标记为“十”字形,由所述“十”字形分割出四个空白区域,位于该顶角处的第一标记位于所述空白区域中,且所述第二标记与该第一标记的相对位置固定不变。
2.如权利要求1所述的测量标记,其特征在于,所述第一标记为正方形,其边长为8-12μm。
3.如权利要求2所述的测量标记,其特征在于,所述第二标记的宽度为4-8μm,长度为40-60μm。
4.如权利要求3所述的测量标记,其特征在于,所述第二标记与其所靠近的第一标记在X方向的间距为2-6μm,在Y方向的间距为2-6μm。
5.如权利要求1所述的测量标记,其特征在于,所述晶片包括多个所述曝光单元,所述第二标记的四个空白处皆对应有一个第一标记。
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