[实用新型]三维相移电子散斑干涉仪有效
| 申请号: | 201320669954.2 | 申请日: | 2013-10-28 |
| 公开(公告)号: | CN203534532U | 公开(公告)日: | 2014-04-09 |
| 发明(设计)人: | 李鹰 | 申请(专利权)人: | 卓力特光电仪器(苏州)有限公司 |
| 主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02;G01B9/02 |
| 代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 范晴 |
| 地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 三维 相移 电子 干涉仪 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种散斑干涉仪,具体涉及一种三维相移电子散斑干涉仪,用于对物体变形后表面微位移量的精确测量。
背景技术
相移电子散斑干涉(ESPI)技术是继光弹性和全息干涉等光测力学方法之后发展起来的一种实验力学新方法。它直接依靠激光干涉和计算机图像采集处理系统获得干涉条纹。这种方法在工程上已得到了较广泛的运用,可用于解决工程中的强度和刚度问题,并可用于残余应力测量。
三维相移ESPI技术是ESPI技术结合相移技术向三维、高精度和自动化方向的发展,具有灵敏度高、可同时获得全场三维位移、非接触等优点。三维位移场的测量可通过参考型与双光束型ESPI光路的组合来实现,可无需计算直接得到位移场,但光路设置复杂,需要参考型与双光束型2套干涉光路系统。大剪切ESPI的方法测量三维位移,光路简单,但适合于被测物体附近可以放置参考物的环境下。
目前的采用三维相移技术的干涉仪都存在结构复杂、操作繁琐等缺点。
发明内容
本实用新型目的是:针对上述问题,提供一种结构简单、携带方便的三维相移电子散斑干涉仪。
本实用新型的技术方案是:一种三维相移电子散斑干涉仪,它包括仪器座和固定在该仪器座上面的仪器壳,所述仪器壳上安装有分别布置在该仪器壳上侧、下侧、左侧、右侧的四个反射镜套筒,每个反射镜套筒中均安装有一反射镜,所述仪器壳内设有:一固体绿光激光器、一分光棱镜、一压电陶瓷相移器、以及一CCD摄像头,所述CCD摄像头与计算机电连接,所述分光棱镜接收所述固体绿光激光器发出的激光束并将该激光束一分为四,由分光棱镜分出的这四束光分别射向所述的四个反射镜,并由所述反射镜反射到受检物表面。
所述仪器座上开设有四个呈矩形分布的竖直通孔。
所述三维相移电子散斑干涉仪还包括一个能够将所述仪器座和仪器壳收容在其内的防尘罩。
本实用新型的优点是:本实用新型的这种三维相移电子散斑干涉仪,将其主要部件集中布置在一壳体内部,从而使得本仪器具有结构简单合理、体型轻小、携带方便的特点,而且本仪器的试验过程无须在暗室中即可进行。
附图说明
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:
图1为本实用新型实施例的外观结构简图;
图2为本实用新型实施例剖视结构示意图;
其中:1-仪器座,2-仪器壳,3-反射镜套筒,4-反射镜,5-固体绿光激光器,6-分光棱镜,7-压电陶瓷相移器,8-CCD摄像头。
具体实施方式
参照图1和图2所示,本实用新型所提供的这种三维相移电子散斑干涉仪,包括一仪器座1、以及固定在该仪器座1上面的一仪器壳2,所述仪器壳2上安装有分别布置在该仪器壳上侧、下侧、左侧、右侧的四个反射镜套筒3,整体呈“十字形”,每个反射镜套筒3中均安装有一反射镜4。实际应用时,需要将本干涉仪固定在水平的光学平台上面。
如图2所示,所述仪器壳2内设有:一固体绿光激光器5、一分光棱镜6、一压电陶瓷相移器7、以及一CCD摄像头8,所述CCD摄像头8与计算机电连接。工作时,所述分光棱镜6接收所述固体绿光激光器5发出的激光束并将该激光束一分为四,由分光棱镜6分出的这四束光分别射向所述四个反射镜套筒3中的四个反射镜4,并由所述反射镜4反射到受检物表面。该仪器由高性能的固体绿光激光器5发射激光束,通过分光棱镜6和反射镜4的作用由四个反射镜套筒3发射出激光光束射向受检物表面,并在受检物表面发生干涉,再由高精度的CCD摄像头8采集干涉图像并传输给计算机,再通过计算机中的软件对干涉图像进行分析,从而得到受检物表面面内和离面位移数据。
本例在所述仪器座1上开设有四个呈矩形分布的竖直通孔,这样就可以通过螺钉将本仪器座1可拆分地固定在光学平台上面。
另外,本例在所述光学平台1上还布置有能够将所述仪器座1和仪器壳2收容在其内的防尘罩(图中未示出)。使用仪器时,将所述防尘罩取下;仪器不使用时,将所述防尘罩盖好。如果长期不用应将激光发射装置和CCD摄像机3放置在干燥箱里以免受潮。
当然,上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让人们能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型主要技术方案的精神实质所做的等效变换或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
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