[实用新型]一种阵列基板及显示装置有效
| 申请号: | 201320631137.8 | 申请日: | 2013-10-12 |
| 公开(公告)号: | CN203561812U | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
| 发明(设计)人: | 李田生;谢振宇 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;H01L29/423 |
| 代理公司: | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人: | 张颖玲;孟桂超 |
| 地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 阵列 显示装置 | ||
1.一种阵列基板,包括衬底基板以及在衬底基板上形成的栅极的图案、栅极绝缘层的图案、像素电极的图案、欧姆接触层的图案、有源层的图案、源漏电极的图案,其特征在于,
所述像素电极的图案位于栅极绝缘层的图案和欧姆接触层的图案之间。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,
所述栅极绝缘层的图案位于栅极的图案和像素电极的图案之间;
所述欧姆接触层的图案位于有源层的图案和像素电极的图案之间。
3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,具体包括:
衬底基板以及在衬底基板上依次形成的栅极的图案、栅极绝缘层的图案、像素电极的图案、欧姆接触层的图案、有源层的图案和源漏电极的图案。
4.根据权利要求1至3任一项所述的阵列基板,其特征在于,还包括:
在源漏电极的图案上方依次形成的钝化层的图案以及公共电极的图案。
5.一种显示装置,包括阵列基板,所述阵列基板包括衬底基板以及在衬底基板上形成的栅极的图案、栅极绝缘层的图案、像素电极的图案、欧姆接触层的图案、有源层的图案、源漏电极的图案,其特征在于,
所述像素电极的图案位于栅极绝缘层的图案和欧姆接触层的图案之间。
6.根据权利要求5所述的显示装置,其特征在于,
所述栅极绝缘层的图案位于栅极的图案和像素电极的图案之间;
所述欧姆接触层的图案位于有源层的图案和像素电极的图案之间。
7.根据权利要求6所述的显示装置,其特征在于,所述阵列基板具体包括:
衬底基板以及在衬底基板上依次形成的栅极的图案、栅极绝缘层的图案、像素电极的图案、欧姆接触层的图案、有源层的图案和源漏电极的图案。
8.根据权利要求5至7任一项所述的显示装置,其特征在于,所述阵列基板还包括:
在源漏电极的图案上方依次形成的钝化层的图案以及公共电极的图案。
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