[实用新型]一种光刻胶离心涂布机用卡盘

说明书

技术领域

本实用新型涉及LED制造技术领域，特别涉及一种光刻胶离心涂布机用卡盘。

背景技术

光刻技术作为微细加工的关键技术已广泛应用于LED行业。在光刻技术中涂布光刻胶是一道关键工序，光刻胶涂布的均匀性严重影响着光刻图形的精确性。目前LED制造领域使用的光刻胶涂布方式有喷雾法、流动法、离心法、滚动法，其中离心法操作简便，易于控制，污染小，光刻胶利用率高，因此，离心法在LED制造行业应用最为广泛。

离心法光刻胶涂布机原理为：光刻胶涂布机利用高转速的无刷电机带动真空卡盘旋转，在卡盘上载有晶片。光刻胶或玻璃涂布液等液体被以一定量滴到晶片中央，马达加速迅速上升至预设速度。在马达加速期间，光刻胶液因离心作用被迅速甩向晶片边缘；继续旋转，让刚刚涂布的光刻胶均匀布置在晶片上并干燥，之后停止卡盘，涂布工作完成。

现有卡盘如图1、图2所示，在涂布光刻胶时，外延片被卡盘真空通道2、径向真空槽21、圆周真空槽22吸附在卡盘上，由于外延片AlGaAs发光二极管外延片因掺杂层和衬底层材质的膨胀系数不同，故AlGaAs外延片表面呈弧形状，导致AlGaAs外延片在涂布光刻胶时，外延片和卡盘之间有间隙，导致卡盘的真空度不够，卡盘在旋转时AlGaAs外延片因真空度不足而被甩出，导致外延片破损，造成产品良率损失。

发明内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种光刻胶离心涂布机用卡盘，包括卡盘本体1、吸嘴3，所述卡盘本体具有卡盘真空通道2，所述吸嘴具有吸嘴真空通道32；所述吸嘴设置在所述卡盘本体上，所述吸嘴真空通道与所述卡盘真空通道相通；所述吸嘴还设置有吸盘31，所述吸盘具有凹面，所述凹面与所述吸嘴真空通道相通。由于设置了凹面吸嘴，与AlGaAs外延片的弧形可以紧密地配合，从而保证了卡盘内的真空度，确保卡盘本体旋转时AlGaAs外延片不会被甩出去造成产品损失。

所述吸嘴为硅胶制成的吸嘴，进一步地利用硅胶柔软可变形的特性，在吸真空时AlGaAs外延片能和硅胶吸嘴紧密密合，使得光刻胶涂布机卡盘真空度达到要求，旋转时AlGaAs外延片不会被甩出去造成产品损失。

进一步地，所述吸嘴还设置有第一颈部33。

进一步地，所述吸嘴还设置有第二颈部34。

进一步地，所述吸嘴插入所述卡盘本体。

进一步地，所述卡盘本体为聚醚醚酮树脂制成的卡盘。

附图说明

图1是现有离心法光刻胶涂布机卡盘主视图的示意图；

图2是现有离心法光刻胶涂布机卡盘俯视图的示意图；

图3是本实用新型主视图的示意图；

图4是本实用新型剖视图的示意图；

图5是本实用新型俯视图的示意图；

其中，1、卡盘本体；2、卡盘真空通道；21、径向真空槽；22、圆周真空槽；3、吸嘴；31、吸盘；32、吸嘴真空通道；33、第一颈部；34、第二颈部。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

下面参考图1描述本实用新型的实施例。

如图1的一种光刻胶离心涂布机用卡盘，包括卡盘本体1、吸嘴3，所述卡盘本体具有卡盘真空通道2，所述吸嘴具有吸嘴真空通道32；所述吸嘴设置在所述卡盘本体上，所述吸嘴真空通道与所述卡盘真空通道相通；所述吸嘴还设置有吸盘31，所述吸盘具有凹面，所述凹面与所述吸嘴真空通道相通。所述吸嘴为硅胶制成的吸嘴，所述卡盘本体为聚醚醚酮树脂制成的卡盘。