[实用新型]用于电容测试设备的新型上料装置

权利要求书

1.用于电容测试设备的新型上料装置，设置于电容测试设备的测试平台上，其特征在于：包括：

料盒，其内设置有第一驱动单元，待测料被置于所述第一驱动单元上，通过所述第一驱动单元的驱动向所述料盒的出料端运动；

滑道，其上的入口端对接所述料盒的出料端、出口端对接所述测试平台；

真空吸盘单元，其设置于所述料盒的出料端处，用于吸取所述待测料并将其送入所述滑道内，所述真空吸盘单元通过第二驱动单元驱动在所述料盒的出料端和所述滑道的入口端之间进行往复运动。

2.根据权利要求1所述的用于电容测试设备的新型上料装置，其特征在于：所述上料装置还包括整料装置，其相对于所述滑道的出口端而设置于所述测试平台的另一侧，用于将所述待测料向所述滑道的出口端推进。

3.根据权利要求1所述的用于电容测试设备的新型上料装置，其特征在于：所述第一驱动单元为凸轮爬行机构。

4.根据权利要求1所述的用于电容测试设备的新型上料装置，其特征在于：所述滑道为弧形滑道。

5.根据权利要求1所述的用于电容测试设备的新型上料装置，其特征在于：所述第二驱动单元包括：气缸，其驱动端连接所述真空吸盘单元；导杆，其连接所述真空吸盘单元，与所述真空吸盘单元同步运动。