[实用新型]一种蒸镀坩埚

说明书

技术领域

本实用新型涉及显示装置技术领域，尤其涉及一种蒸镀坩埚。

背景技术

在对显示装置的显示器件中的有机发光二极管（OLED，Organic Light Emitting Diode）进行加工制造时，一般采用点源的半封闭口的蒸镀坩埚，图1为现有技术的蒸镀坩埚的结构图。如图1所示，所述蒸镀坩埚具有容置装置1，容置装置放置于加热源（例如点源）中，容置装置的开口处安装有坩埚盖2，坩埚盖设有蒸发孔201。其工作原理为：将蒸镀材料放入容置装置，蒸镀材料包括有机材料；将蒸镀坩埚置于点源中，点源加热蒸镀坩埚使气态蒸镀材料从坩埚盖的蒸发孔均匀蒸发出；坩埚盖的上方设有传感器，传感器用于检测所述气态蒸镀材料的蒸发速度；传感器将检测信号反馈回所述点源，使点源根据蒸镀材料的蒸发速度控制对蒸镀坩埚的加热强度。坩埚盖能够避免除蒸镀材料外的其他材料进入蒸镀坩埚造成污染；同时，所述坩埚盖也能够防止蒸镀材料从蒸镀坩埚中剧烈喷发及溅射，造成传感器损坏。

然而，现有技术的蒸镀坩埚具有如下缺点：在蒸镀时，容易造成蒸镀材料在坩埚盖上堆积，导致蒸镀材料的蒸发速率控制不稳，影响OLED器件的制作工艺。

实用新型内容

本实用新型提供一种蒸镀坩埚，用于解决现有技术中的蒸镀坩埚的蒸镀材料容易在坩埚盖堆积的问题。

本实用新型提供的一种蒸镀坩埚，包括：容置装置、坩埚盖、阻挡装置；

其中，所述坩埚盖安装于所述容置装置的开口处且所述坩埚盖设有蒸发孔；所述阻挡装置设于所述蒸发孔的下方位置，且所述阻挡装置的中心穿过有轴，所述轴安装于所述容置装置的内壁且与所述坩埚盖所处平面平行。

进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述阻挡装置在所述坩埚盖上的投影区域覆盖所述蒸发孔的面积区域。

进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述阻挡装置为实心金属材料的阻挡装置。

进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述阻挡装置为表面光滑的阻挡装置。

进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述阻挡装置为球形，所述轴穿过所述阻挡装置的球心。

进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述阻挡装置为椭球形，所述椭球形的阻挡装置的赤道半径相等，所述轴与所述阻挡装置的赤道半径重合或者所述轴与所述阻挡装置的极半径重合。

进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述阻挡装置为圆柱形，所述轴与所述阻挡装置的轴心线重合。

进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述阻挡装置为锥形，所述轴与所述阻挡装置的轴心线重合。

进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述容置装置顶部的横截面在所述容置装置底面的投影区域小于所述容置装置底面的面积区域。

进一步，本实用新型所述的蒸镀坩埚，所述容置装置为钛合金圆桶。

本实用新型提供的一种蒸镀坩埚，通过阻挡装置阻挡蒸镀材料从容置装置中剧烈喷发及溅射，而且阻挡装置的表面可以粘附气态的蒸镀材料，避免了气态蒸镀材料由于冷却，在坩埚盖上的堆积现象，为一进步使蒸镀材料的蒸发速度均匀可控提供了可行的技术方案。

附图说明

图1为现有技术的蒸镀坩埚的结构图；

图2为本实用新型所述的蒸镀坩埚的结构图；

图3为本实用新型所述球形的阻挡装置；

图4为本实用新型所述椭球形的阻挡装置；

图5为本实用新型所述圆柱形的阻挡装置；

图6为本实用新型所述锥形的阻挡装置；

图7为本实用新型实施例的容置装置顶部面积小于底部面积的侧面剖视示意图；

图8为本实用新型实施例的容置装置顶部面积小于底部面积的俯视示意图。

具体实施方式

为了更好地理解本实用新型，下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步描述。

本实用新型实施例提供的一种蒸镀坩埚，图2为本实用新型所述的蒸镀坩埚的结构图，如图2所示，所述蒸镀坩埚包括：容置装置1、坩埚盖2、阻挡装置3；

其中，所述坩埚盖2安装于所述容置装置1的开口处101且所述坩埚盖2设有蒸发孔201；所述阻挡装置3设于所述蒸发孔201的下方位置，且所述阻挡装置3的中心穿过有轴301，所述轴301安装于所述容置装置的内壁102且与所述坩埚盖2所处平面平行。

坩埚盖位于最顶部，通过丝扣可以固定在容置装置上，主要是用来阻挡其他物体进入坩埚，造成污染；坩埚盖的中心位置设有蒸发孔，气态蒸镀材料从蒸发孔向上蒸发。