[实用新型]管式PECVD设备进料检测装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体加工领域，具体涉及一种管式PECVD进料检测装置。

背景技术

   PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 设备，即等离子增强化学气象沉积设备，用于对硅片进行镀膜，其包括上下料区、炉体、抽真空系统和控制系统，硅片装在石墨舟中，通过上下料区进入炉体进行镀膜，镀膜后在上下料区将石墨舟卸下。现有设备的进料环节是手动控制的，将装载石墨舟的小车推至进料口，使石墨舟位于进料上料机械手的下方，然后手动按动开关上料机械手自动抓取石墨舟进入自动操作流程。整个操作流程需要人工干预，不能做到完全自动化，影响生产效率。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种管式PECVD进料检测装置，能够检测工件是否位于进料上料机械手下方，进而完成自动进料操作，提高了设备自动化程度，进而提高了生产效率。

本实用新型通过以下技术方案实现：

管式PECVD设备进料检测装置，包括开设在壳体上的进料口，所述进料口的两侧壳体上分别固定有对射式光电开关的发射器和接收器，所述对射式光电开关的控制器与管式PECVD设备的可编程控制器电连接。

本实用新型进一步的改进方案是，所述对射式光电开关的光传播路径经过工件的上料等待位置。

本实用新型进一步的改进方案是，所述发射器为红外发射管，所述接收器为光敏条型接收器

本实用新型和现有技术相比具有以下优点：

本实用新型利用对射式光电开关控制设备的上料动作，石墨舟从上料口推进设备后位于对射式光电开关的光传播路径上，此时触发上料机械手启动进入后续操作。本实用新型的使用实现整个工序的全自动化操作，提高了设备的自动化程度解放了劳动力，进而提高了生产效率。

附图说明

图1为本实用新型俯视结构剖视图。

具体实施方式

如图1所示的管式PECVD设备进料检测装置，包括开设在壳体上的进料口1，进料口1的两侧壳体上分别固定有对射式光电开关的发射器2和接收器3，其中对射式光电开关的控制器与管式PECVD设备的可编程控制器电连接。

本实施例的实现需要满足对射式光电开关的光传播路径（图中虚线所示）经过工件的上料等待位置，发射器2为红外发射管，接收器3为光敏条型接收器。这样当工件随小车推至上料机械手下方待加工时刚好阻隔了发射器的红外线，触发上料机械手的启动开关，完成自动启动操作，与设备后续操作对接实现全自动操作。