[实用新型]管式PECVD设备进料检测装置有效
| 申请号： | 201320596515.3 | 申请日： | 2013-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN203530430U | 公开（公告）日： | 2014-04-09 |
| 发明（设计）人： | 华贵俊;徐昌华;史才成;孟宪亮;郝子龙;郑银先;高超;陈前兆 | 申请（专利权）人： | 江苏晶鼎电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/52 | 分类号： | C23C16/52 |
| 代理公司： | 淮安市科文知识产权事务所 32223 | 代理人： | 谢观素 |
| 地址： | 223700 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | pecvd 设备 进料 检测 装置 | ||
【权利要求书】：
1. 管式PECVD设备进料检测装置，包括开设在设备壳体上的进料口（1），其特征在于：所述进料口（1）的两侧壳体上分别固定有对射式光电开关的发射器（2）和接收器（3），所述对射式光电开关的控制器与管式PECVD设备的可编程控制器电连接。
2. 如权利要求1所述的管式PECVD设备进料检测装置，其特征在于：所述对射式光电开关的光传播路径经过工件的上料等待位置。
3. 如权利要求1所述的管式PECVD设备进料检测装置，其特征在于：所述发射器(2)为红外发射管，所述接收器（3）为光敏条型接收器。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
