[实用新型]过滤器以及酸洗设备

权利要求书

1.一种过滤器，用于半导体湿法清洗中对酸液进行过滤，其特征在于，包括：

壳体以及位于所述壳体中的滤网；

其中，所述壳体包括侧壁，所述侧壁由内至外包括内壁、感压膜及外壁，所述感压膜侦测所述过滤器内的压强并传递信号至外界。

2.如权利要求1所述的过滤器，其特征在于，所述侧壁的形状为圆筒形，所述滤网的形状为一端敞开的空心圆柱形，所述滤网的高度及底面积均小于所述侧壁的高度及底面积。

3.如权利要求2所述的过滤器，其特征在于，所述过滤器进一步包括与所述侧壁相连接的顶板和底板，所述滤网的敞开一端连接于所述顶板，所述滤网与所述侧壁及所述底板之间具有空隙，所述酸液经过所述空隙。

4.如权利要求3所述的过滤器，其特征在于，所述过滤器包括穿过所述侧壁的一进液管和一排液管，所述滤网包括一开口，所述开口和所述排液管相连通；所述进液管与所述空隙相连通，所述酸液由所述进液管进入所述空隙，经所述滤网过滤后渗入所述滤网中，并经由所述开口和排液管排出。

5.如权利要求4所述的过滤器，其特征在于，所述过滤器还包括一穿过所述底板的废液排放口，经所述滤网过滤后的废液由所述废液排放口排出。

6.如权利要求1所述的过滤器，其特征在于，所述过滤器还包括一显示屏，所述感压膜侦测到的压强由所述显示屏显示。

7.一种酸洗设备，用于半导体制造过程中对晶圆进行清洗，所述酸洗设备包括酸槽、过滤器，所述酸液经所述过滤器后进入酸槽对待清洗晶圆进行清洗；其特征在于，所述过滤器为如权利要求1～6中任一项所述的过滤器。