[实用新型]具有阳极壳体的磁控管溅射刻蚀设备

权利要求书

1.一种用于磁控管溅射刻蚀的设备，其在用于以直通方法处理带形衬底（5）的设施之内，其在真空中，所述设备被布置成衬底（5）的两个表面，使得在被称为刻蚀面（10）的第一要处理的表面上设置阳极壳体（1,2），并且 

在被称为对接面的与衬底（5）上的刻蚀面对置的第二表面上设置磁体装置（4）， 

磁体装置（4）构造贯穿衬底（5）的磁场，使得由磁场线构成的环绕闭合的隧道被施加在刻蚀面（10）上方， 

阳极壳体（1,2）具有至少一个被实施为金属导体的带有阳极电势（11）的阳极（2）和覆盖阳极和刻蚀面（10）的暗场屏蔽（1）， 

在衬底（5）上以及在暗场屏蔽（1）上设置至少部分附上的阴极电势（12），以及 

暗场屏蔽（1）到达衬底（5）上地被实施在该设备的至少一个输入侧的和/或输出侧的衬底通流口上以及横向于其传送方向（9）地被布置，使得在刻蚀面（10）与暗场屏蔽（1）之间的衬底距离（8）被预给定， 

其特征在于， 

暗场屏蔽（1）的至少一部分能运动，使得能调节衬底距离（8）， 

装置（14,15）被设置为使得衬底距离（8）根据衬底（5）的位置能被减小到可预给定的最小距离， 

装置（14,15）具有至少一个测量装置（14）和提升装置（15），利用所述测量装置（14）能检测到衬底（5）相对于该设备的至少一部分的位置，该设备的至少一个部分能与所述提升装置（15）一起运动，以及 

借助提升装置（15），暗场屏蔽（1）能运动。 

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，借助提升装置（15），阳极（2）和/或磁体装置（4）能运动。 

3.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，阴极电势（12）接地，使得该电势与所述设施的壳体的电势相同。 

4.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，阳极壳体（1,2）具有能穿过其吸走阳极壳体（1,2）的穿通部。 

5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，暗场屏蔽（1）具有这种穿通 部，在所述穿通部的情况下，在两个穿通部之间布置的接片（7）相对于暗场屏蔽（1）电绝缘地被实施。 

6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，至少一个接片（7）被实施为称为整流子片的条形元件，所述条形元件平行于衬底（5）地被布置。 

7.根据权利要求5或6所述的设备，其特征在于，至少一个接片（7）被布置在暗场屏蔽（1）的位于衬底通流口与阳极（2）之间的部分中。 

8.根据权利要求5或6所述的设备，其特征在于，在接片（7）上施加大于阴极电势（12）和小于阳极电势（11）的中间电势（20）。 

9.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，测量装置（14）机械接触刻蚀面（10）的至少一部分，使得能确定刻蚀面（10）的位置。 

10.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，提升装置（15）是至少一个垂直于刻蚀面（10）可运动的弹簧元件，测量装置（14）的检测能被机械转移到所述弹簧元件上，使得提升装置（15）以将该设备的可运动部分（1，2，4）置于与衬底（5）等距的位置的方式被构造。 

11.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，提升装置（15）是至少一个可垂直于刻蚀面（10）运动的驱动元件，测量装置（14）的检测能被电转移到所述驱动元件上，使得提升装置（15）以将该设备的可运动部分（1,2,4）置于与衬底（5）等距的位置的方式被构造。 

12.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，测量装置（15）以提升至少一个电测量信号的方式被实施，使得刻蚀面（10）的位置能被确定。 

13.根据权利要求9所述的设备，其特征在于，机械接触（13）通过滚轮、刷或者石磨毡来制造。 

14.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，暗场屏蔽（1）的至少一部分能在衬底通流口上运动。 

15.根据权利要求14所述的设备，其特征在于，暗场屏蔽的可运动的部分是至少一个屏蔽轧辊（16）。