[实用新型]电路板蚀刻装置有效
申请号: | 201320474516.0 | 申请日: | 2013-08-05 |
公开(公告)号: | CN203399422U | 公开(公告)日: | 2014-01-15 |
发明(设计)人: | 郑振华 | 申请(专利权)人: | 郑振华 |
主分类号: | H05K3/06 | 分类号: | H05K3/06;C23F1/08 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 赵郁军 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电路板 蚀刻 装置 | ||
技术领域
本实用新型与电路板蚀刻装置有关,尤指一种在电路板喷洒蚀刻液后,再以气体吹走蚀刻液的蚀刻装置。
背景技术
电路板为电子产品中不可或缺的基本元件,而其以在基板表面喷洒蚀刻液,以蚀刻铜箔以形成导电电路。但是在蚀刻过程中,常常发生一种称为「水池效应」的现象,即基板表面的铜箔经蚀刻液蚀刻后将形成凹陷区,而反应后的蚀刻液容易滞留于凹陷区中,令较晚喷洒的蚀刻液无法进入凹陷区中继续蚀刻,造成蚀刻深度不足,此为其中一个缺失。另一方面,反应后的蚀刻液滞留于凹陷区中,将会持续侵蚀凹陷区侧面的铜箔,造成蚀刻过度而导致预定的导电路径遭蚀断。上述两个问题,都严重影响到产品的生产良率,造成品质的不稳定及成本的提升,须以一新型的蚀刻装置克服缺失。
实用新型内容
本实用新型的主要目的在于提供一种电路板蚀刻装置,其具有数个喷头分别喷出蚀刻液及高压气体,令电路板于经蚀刻液作用后,再喷以高压气体将蚀刻液吹离电路板,避免其滞留于电路板上而过度反应,具有提高产品良率的功效。
为达前述的目的,本实用新型采用以下技术方案:
一种电路板蚀刻装置,其包括有:
一输送装置,用以将电路板往一预定方向输送;
至少一喷洒装置,其设于该输送装置的上方并连接至一泵浦,而可朝置于输送装置上的电路板喷洒蚀刻液,且各喷洒装置沿该输送装置的输送方向排列设置;
至少一喷气装置,其设于该输送装置的上方并连接至一空压机,而可朝置于输送装置上的电路板喷出高压气体;各喷气装置沿该输送装置的输送方向排列设置,并穿插设于各喷洒装置之间,且各喷气装置在顺着输送方向上设于各喷洒装置的后方。
较佳地,各喷洒装置与各喷气装置呈间隔地交互设置。
本实用新型的优点在于:
本实用新型通过设置数个喷头分别喷出蚀刻液及高压气体,令电路板于经蚀刻液作用后,再喷以高压气体将蚀刻液吹离电路板,可避免蚀刻液滞留于电路板上而过度反应,具有提高产品良率的功效。
附图说明
图1为本实用新型的架构示意图。
图2为本实用新型的使用状态示意图。
具体实施方式
请参阅图1,其为本实用新型所提供的电路板蚀刻装置,其具有一输送装置1,可供欲加工的电路板4置于其上,以将电路板4往一预定方向输送。而该输送装置1的上方设有至少一喷洒装置2及至少一喷气装置3,其中该喷洒装置2连接于一泵浦(图中未示),可输送蚀刻液而经该喷洒装置2朝下喷出,将蚀刻液喷洒于置于输送装置1上的电路板4以进行蚀刻反应,喷气装置3连接于一空压机(图中未示),可输送高压气体而经该喷气装置3朝下喷出,而在输送装置1上形成强力的风刀,吹至电路板4上。
上述的喷洒装置2及喷气装置3的所在位置沿着输送装置1的输送方向排列设置,更进一步地,各喷气装置3穿插设于各喷洒装置2之间,且各喷气装置3在顺着输送方向上设于各喷洒装置2的后方;此外,于本实施例中,各喷洒装置2与各喷气装置3呈间隔地交互设置;换句话说,在电路板4受输送装置1输送移动的过程中,将依序受到喷洒装置2及喷气装置3的交互作用,而先在电路板4上受喷洒装置2喷上蚀刻液,再经喷气装置3形成的风刀刮除先前喷洒的蚀刻液。以此,电路板4在输送装置1的输送路径上将受到数次如上述的喷洒过程。
而电路板4在上述的喷洒过程中,如图2所示,首先在电路板4经过喷洒装置2的下方时,其受到喷洒装置2所喷下的蚀刻液的作用产生蚀刻反应,而在其表面预定蚀刻的位置形成被侵蚀的凹陷区41,其中未被侵蚀的部分则将构成可导电的电路,此时蚀刻液42会留在电路板4的凹陷区41中;接着,电路板4继续受输送装置1的带动而移动至喷气装置3的下方,喷气装置3所吹出的风刀可强力地吹在电路板4的表面,而将前述留在凹陷区41中的蚀刻液42自凹陷区41中刮除,令电路板4于通过喷气装置3之后没有蚀刻液留在电路板4上,以此可避免先前已反应完毕的蚀刻液持续滞留于凹陷区41中而形成水池效应,而阻止后喷洒的蚀刻液无法进入凹陷区41中继续进行蚀刻。此外,反应过后的蚀刻液经该喷气装置3的风刀刮除后,不会留在电路板4上持续进行反应而造成蚀刻过度,影响所形成电路的尺寸。
据上述,本实用新型的优点即在于利用交互设置的喷洒装置2及喷气装置3,电路板4可交互地受到蚀刻液的作用,接着以风刀刮除之,令电路板4上预定进行蚀刻的部分适当地被蚀刻液侵蚀,以提升产品的良率。
以上所述是本实用新型的较佳实施例及其所运用的技术原理,对于本领域的技术人员来说,在不背离本实用新型的精神和范围的情况下,任何基于本实用新型技术方案基础上的等效变换、简单替换等显而易见的改变,均属于本实用新型保护范围之内。
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