[实用新型]一种具有在位打磨装置的非晶薄带制取装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及非晶合金制造技术领域，尤其涉及一种具有在位打磨装置的非晶薄带制取装置。

背景技术

金属在熔化后，内部原子处于活跃状态。一旦金属开始冷却，原子就会随着温度的下降，而慢慢地按照一定的晶态规律有序地排列起来，形成晶体。但如果冷却过程很快，原子还来不及重新排列就被凝固住了，由此就产生了非晶态合金。制备非晶态合金采用的正是一种快速凝固的工艺,将处于熔融状态的高温钢水喷射到高速旋转的冷却辊上，钢水以每秒百万度的速度迅速冷却，仅用千分之一秒的时间就将1300℃的钢水降到200℃以下，形成非晶带材。

非晶态合金与晶态合金相比，在物理性能、化学性能和机械性能方面都发生了显著的变化。以铁元素为主的非晶态合金为例，它具有高饱和磁感应强度和低损耗的特点。由于这样的特性，非晶态合金材料在电子、航空、航天、机械、微电子等众多领域中具备了广阔的应用空间。正是因为非晶材料这样一系列优良特性，国内外均对其开展了系统性的理论与应用研究，国内对非晶合金的研究从1976年开始，国家科委一直将非晶合金的研究、开发、产业化列入重大科技攻关项目。在国际上，美日等西方发达国家也开展了大量的基础性研究。经过几十年的科研攻关，非晶材料的产业化应用取得了长足的进步。

由于在制作非晶带材时，钢水与高速旋转的冷却辊辊面长时间接触，冷却辊表面的光洁度经过钢水的冲刷及热腐蚀后，光洁度明显下降，并且使冷却辊表面层的品粒逐步长大，从而增加了钢水与辊面的热阻，并使得紧贴辊面的带材表观质量恶化，使得产品质量性能下降。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有技术存在的不足，提供一种具有在位打磨装置的非晶薄带制取装置，该实用新型能够优化冷却辊的表面光洁度，保证非晶薄带的质量。

本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的：一种具有在位打磨装置的非晶薄带制取装置，包括冶炼机构、喷流机构、冷却机构和修磨器，所述冶炼机构上设置有泄流口，泄流口下方设置有喷流机构，所述喷流机构顶部设置有进液口，喷流机构内设置有流道，喷流机构底部设置有四块氮化硼陶瓷片，喷流机构下方设置有冷却机构，所述冷却机构的两侧均设置有一修磨器，所述修磨器紧靠冷却机构。

优选的，所述四块氮化硼陶瓷片围成0.1mm-1.0mm的喷缝，四块氮化硼陶瓷片外围通过耐火泥或高温胶与喷流机构固定连接，氮化硼陶瓷片连接螺杆。

优选的，所述冷却机构具有柱形工作面，所述修磨器为轮形，修磨器的外表面与柱形工作面接触。

本实用新型的有益效果是：本实用新型在冷却机构两侧设置了修磨器，在冷却机构被金属液冲刷的同时，对其柱形工作面进行打磨，修正柱形工作面的光洁度，从而使其光洁度始终保持在合理的范围内，使制造出的非晶薄带保持前后一致。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型喷流机构的放大结构示意图；

图3为图2的仰视图；

其中，1—冶炼机构；2—泄流口；3—喷流机构；4—进液口；5—流道；6—氮化硼陶瓷片；7—冷却机构；8—修磨器；9—喷缝；10—耐火泥；11—螺杆。

具体实施方式

为能清楚说明本方案的技术特点，下面通过一个具体实施方式，并结合其附图，对本方案进行阐述。

通过附图可以看出，本方案的具有在位打磨装置的非晶薄带制取装置，包括冶炼机构1、喷流机构3、冷却机构7和修磨器8，所述冶炼机构1上设置有泄流口2，泄流口2下方设置有喷流机构3，所述喷流机构3顶部设置有进液口4，喷流机构3内设置有流道5，喷流机构3底部设置有四块氮化硼陶瓷片6，喷流机构3下方设置有冷却机构7，所述冷却机构7的两侧均设置有一修磨器8，所述修磨器8紧靠冷却机构7。

进一步的，所述四块氮化硼陶瓷片6围成0.1mm-1.0mm的喷缝9，四块氮化硼陶瓷片6外围通过耐火泥10与喷流机构3固定连接，氮化硼陶瓷片6连接螺杆11。

进一步的，所述冷却机构7具有柱形工作面，所述修磨器8为轮形，修磨器8的外表面与柱形工作面接触。

本实用新型在冷却机构7两侧设置了修磨器8，在冷却机构7被金属液冲刷的同时，对其柱形工作面进行打磨，修正柱形工作面的光洁度，从而使其光洁度始终保持在合理的范围内，使制造出的非晶薄带保持前后一致。

以上公开的仅为本实用新型的一个较佳实施例，但并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的修改、润色、等同替换等，均应包含在本实用新型的保护范围之内，此外，本实用新型未详述之处，均为本技术领域技术人员的公知技术。