[实用新型]一种透明导电膜有效

专利信息
申请号: 201320463567.3 申请日: 2013-07-31
公开(公告)号: CN203376990U 公开(公告)日: 2014-01-01
发明(设计)人: 程传新;陈春明;刘升升;郑建军 申请(专利权)人: 南昌欧菲光科技有限公司;深圳欧菲光科技股份有限公司;苏州欧菲光科技有限公司
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;H01B13/00;G06F3/044
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 刘芳
地址: 330013 江西省南昌*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 透明 导电
【权利要求书】:

1.一种透明导电膜,其特征在于,包括:

基底或表面形成有基质层的基底;

导电层,所述导电层为设置于所述基底上或所述基质层上的网格状导电层,且延伸至不可视区;

挠性连接部件,所述挠性连接部件包括基片、以及设置于所述基片上的引线电极,该挠性连接部件与所述导电层延伸至不可视区的网格贴合实现引线电极与导电层的电连接。

2.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述挠性连接部件与所述导电层延伸至不可视区的网格的贴合是通过导电胶进行贴合。

3.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述基底或所述基质层上设有网格状凹槽,该网格状凹槽内填充有导电材料形成导电层。

4.根据权利要求3所述的透明导电膜,其特征在于,所述网格状凹槽的底部设有深度为500nm~1μm的微型槽,所述微型槽的截面呈V字形、W字形、弧形或波浪形。

5.根据权利要求3所述的透明导电膜,其特征在于,所述网格状凹槽为对所述基底或所述基质层压印而形成。

6.根据权利要求3-5中任一项所述的透明导电膜,其特征在于,所述网格状凹槽的宽度为1μm~5μm,深度为2μm~6μm,且深度与宽度的比值大于1。

7.根据权利要求3-5中任一项所述的透明导电膜,其特征在于,所述网格状凹槽的网格为规则网格或随机网格,其中所述规则网格为正方形网格、矩形网格、平等四边行网格或正六边形网格。

8.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述引线电极为线条状,且引线电极的线宽为50-200μm,高度为5-10μm。

9.根据权利要求1或8所述的透明导电膜,其特征在于,所述引线电极为对挠性连接部件的基片进行压印而形成的凹槽式引线电极;或者为在挠性连接部件的基片上进行图形化而形成的凸起结构的引线电极。

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