[实用新型]曝光装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及微电子领域，尤其涉及一种曝光装置。

背景技术

随着光电显示技术的日益成熟发展，显示装置的应用领域越来越广泛。其中因为拥有寿命长、光效高、辐射低、低功耗等特点，基于液晶面板的显示装置逐渐取代了传统射线管显示装置而成为了近年来显示设备产品主流的发展方向。

作为制备液晶面板过程中一种重要设备，曝光装置用于将掩膜板上图像信息通过曝光工艺转移到基板上，并通过对完成曝光工艺的所述基板继续进行显影刻蚀等后续工艺，形成液晶面板中各结构单元的图形。如图1所示，图1是一种现有技术曝光装置的截面示意图。其中，现有技术曝光装置包括：基板基台1'，用于放置待曝光的基板10'，进一步的基板10'上设置有基板对位标记101'、102'；掩膜板基台2'，用于放置掩膜板20'，进一步的掩膜板20'上设置有掩膜板对位标记201'、202'；UM光路3'，用于提供曝光装置内部的光路通道；物镜组4'，用于捕捉基板对位标记101'、102'和掩膜板对位标记201'、202'通过曝光后生成位于基板10'上的对位图形；分光系统5'以及监视装置6'，用于根据对位图形，确定基板10'与掩膜板20'的位置关系，判断基板10'与掩膜板20'的对位情况。

进一步的，以图1所示的曝光装置为例，为了判断基板10'与掩膜板20'的对位情况，需要进行如下步骤：利用物镜组4'捕捉形成基板10'上的对位图形；举例来说，如图2所示，图2为基板对位标记101'、102'和掩膜板对位标记201'、202'在基板10'上形成的对位图形。最后曝光装置利用形成的对位图形即可判断曝光步骤中基板10'与掩膜板20'的对位情况。如果最终在监视装置6'中观察到的对位图案如图2所示，即202'中的一横条图案在101'中的两条横向图案中间，同时202'中的竖条图案也在101'的两个竖条图案中间；同理201'和102'的情况与202'和101'的最终对位图案一致，那么此种情况下说明对位是准确的。

发明人在研发过程中发现现有技术的曝光装置中至少存在如下问题：由于现有技术曝光装置中掩膜板上设置有对位标记，因此在每一次掩膜工艺时，都会在基板上对应掩膜板对位标记的位置上留下掩膜标记，这样会影响在后续的掩膜板与基板的对位。因此，当利用曝光机进行多层连续掩膜曝光时，需要在基板上设置多组基板对位标记。

实用新型内容

本实用新型的实施例提供了一种曝光装置，可更加简单直观的判断出基板与掩膜板的对位情况，提高了曝光装置的工作效率。

为解决上述技术问题，本实用新型的实施例采用如下技术方案：

一种曝光装置，包括用于放置基板的基板基台、用于放置掩膜板的掩膜板基台，所述基板上设置有第一对位标记组，所述掩膜板基台上设置有第二对位标记组，所述曝光装置还包括第一物镜组和第二物镜组；所述第一物镜组用于捕捉所述第一对位标记组，所述第二物镜组用于捕捉所述第二对位标记组。

进一步的，所述第一对位标记组包含两个与所述基板中心轴对称的第一对位标记。

进一步的，所述第二对位标记组包含两个与所述掩膜板中心轴对称的第二对位标记。

进一步的，所述第一物镜组包含两个关于所述基板中心轴对称的物镜。

进一步的，所述第二物镜组包含两个关于所述掩膜板中心轴对称的物镜。

优选的，所述第一物镜组包含的物镜以及所述第二物镜组包含的物镜均垂直于掩膜板基台所在的平面。

进一步的，所述曝光装置还包括调节系统，所述调节系统用于调节所述第一物镜组包含的物镜以及所述第二物镜组包含的物镜在面内或者竖直方向进行移动。

进一步的，所述曝光装置还包括分光系统，所述分光系统用于将接收到的入射光经过分光后分别传输给所述第一物镜组和所述第二物镜组。

进一步的，所述分光系统包含分光棱镜。

进一步的，所述曝光装置还包括监视装置，所述监视装置包括电荷耦合元件CCD以及计算单元。

本实用新型实施例提供的一种曝光装置，该曝光装置中设置第一物镜组以及第二物镜组，第一物镜组用于捕捉设置在基板上的第一对位标记组，第二物镜组用于捕捉设置在掩膜板基台上的第二对位标记组，根据捕捉到的第一对位标记组以及第二对位标记组形成的对位图形即可判断出掩膜板与基板的对位情况，简化了判断掩膜板与基板对位情况的复杂程度，提高了曝光装置的工作效率。

附图说明