[实用新型]曝光装置有效
| 申请号： | 201320462091.1 | 申请日： | 2013-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN203365917U | 公开（公告）日： | 2013-12-25 |
| 发明（设计）人： | 王德帅;郭建 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
1.一种曝光装置，包括用于放置基板的基板基台、用于放置掩膜板的掩膜板基台，其特征在于，所述基板上设置有第一对位标记组，所述掩膜板基台上设置有第二对位标记组，所述曝光装置还包括第一物镜组和第二物镜组；所述第一物镜组用于捕捉所述第一对位标记组，所述第二物镜组用于捕捉所述第二对位标记组。
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第一对位标记组包含两个与所述基板中心轴对称的第一对位标记。
3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第二对位标记组包含两个与所述掩膜板中心轴对称的第二对位标记。
4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第一物镜组包含两个关于所述基板中心轴对称的物镜。
5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第二物镜组包含两个关于所述掩膜板中心轴对称的物镜。
6.根据权利要求4或5所述的曝光装置，其特征在于，所述第一物镜组包含的物镜以及所述第二物镜组包含的物镜均垂直于所述掩膜板基台所在的平面。
7.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还包括调节系统，所述调节系统用于调节所述第一物镜组包含的物镜以及所述第二物镜组包含的物镜在面内或者竖直方向进行移动。
8.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还包括分光系统，所述分光系统用于将接收到的入射光经过分光后分别传输给所述第一物镜组和所述第二物镜组。
9.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于，所述分光系统包含分光棱镜。
10.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还包括监视装置，所述监视装置包括电荷耦合元件以及计算单元。
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