[实用新型]阵列基板、显示面板及显示装置有效
申请号: | 201320448232.4 | 申请日: | 2013-07-25 |
公开(公告)号: | CN203337951U | 公开(公告)日: | 2013-12-11 |
发明(设计)人: | 陈玉琼;杜玙璠 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1343 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 显示 面板 显示装置 | ||
1.一种阵列基板,包括:第一基板及位于所述第一基板上的电极层,所述电极层包括多个间隔设置的电极,相邻所述电极之间形成有间隙;其特征在于,还包括:
遮光层,位于所述第一基板和所述电极层之间,所述遮光层包括多个分别与每一所述间隙对应设置的遮光体,所述遮光体的宽度大于或等于与其对应的所述间隙的宽度;
平坦化层,位于所述第一基板和所述电极层之间,覆盖于所述遮光层之上,所述平坦化层的厚度大于所述遮光层的厚度。
2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,还包括:位于所述第一基板和所述电极层之间的枕垫物层,所述平坦化层覆盖于所述枕垫物层之上,所述平坦化层的厚度大于所述枕垫物层的厚度。
3.如权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述遮光层和所述枕垫物层由金属材料形成,所述平坦化层由绝缘材料形成。
4.如权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述遮光层与所述枕垫物层同时曝光形成。
5.如权利要求1~4任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述遮光体的厚度范围为0.19~0.39微米。
6.一种显示面板,其特征在于,包括如权利要求1~5任一项所述的阵列基板及与所述阵列基板相对设置的彩膜基板。
7.如权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述彩膜基板包括:第二基板及形成于所述第二基板上的平坦化层和电极层。
8.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求6或7所述的显示面板。
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