[实用新型]一种真空压力烘烤设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空压力烘烤设备，尤其涉及一种具有气密装置的真空压力烘烤设备。

背景技术

现有真空压力烤箱通常包括一烤箱及一箱门，烤箱界定有一腔室，箱门可盖合于烤箱并封闭腔室。真空压力烤箱是透过一气压源提供气体压力至腔室内，以进行加热加压的烘烤作业。另一方面，真空压力烤箱是透过一真空帮浦对腔室内抽真空，以进行真空环境下的加热烘烤作业。

气压源提供气体压力至腔室内时，气体压力会将箱门朝远离烤箱方向顶推，若箱门与烤箱之间无法保持紧密的气密状态，则腔室内的气体易产生泄漏的问题，进而造成腔室内的压力降低。当真空帮浦对腔室内抽真空时，箱门会朝烤箱方向迫紧，若箱门与烤箱之间无法保持紧密的气密状态，会影响腔室内的真空度。因此，如何构思一种气密装置，不论腔室在充气加压的状态下或者是在抽真空的状态下，箱门都能与烤箱之间保持良好的气密状态，遂成为本案要进一步改善的主题。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种真空压力烘烤设备，通过第一气密垫圈及第二气密垫圈的设计，使得腔室在充气加压的状态下或者是在抽真空的状态下，烤箱的箱门都能与框架保持良好的气密状态。

为实现上述目的，本实用新型提供一种真空压力烘烤设备，包括一烤箱，形成一腔室，及一使所述腔室与外部相连通的开口，所述烤箱包括一界定出所述开口的框架，及一第一气密垫圈，所述框架包含一呈圆环状的环形端面，所述环形端面凹陷形成一用以供所述第一气密垫圈容置的第一环形凹槽；及一箱门，设置于所述框架并且可开启地封闭所述开口，所述箱门包括一面向所述环形端面并可封闭所述开口的封闭面，及一第二气密垫圈，所述封闭面凹陷形成一用以供所述第二气密垫圈容置的第二环形凹槽，所述第一气密垫圈用以抵接于所述封闭面以防止所述腔室内充气时气体泄漏至外部，所述第二气密垫圈用以抵接于所述环形端面以防止所述腔室抽真空时外部气体流入所述腔室内。

较佳地，所述烤箱还包括多个连接于所述框架的通气管，各所述通气管可沿着一朝向所述封闭面的出气方向输送气体至所述第一环形凹槽内，以顶推所述第一气密垫圈使其迫紧所述封闭面。

较佳地，所述第一气密垫圈可由一与所述封闭面相间隔的初始位置移动至一迫紧位置，在所述的迫紧位置时，所述第一气密垫圈部分凸伸出所述环形端面并迫紧于所述封闭面。

较佳地，所述第二气密垫圈的外径小于所述第一气密垫圈的外径，所述第二气密垫圈间隔位于所述第一气密垫圈内侧，所述第二气密垫圈部分凸伸出所述封闭面。

较佳地，所述框架还包含一与所述环形端面相间隔的环形槽面、一连接于所述环形槽面与所述环形端面之间的内周面，及一连接于所述环形槽面与所述环形端面之间且间隔位于所述内周面外侧的外周面，所述环形槽面、所述内周面以及所述外周面共同界定出所述第一环形凹槽，所述环形槽面形成有多个出气孔，各所述通气管与对应的出气孔相连通并可透过对应的出气孔输送气体至所述第一环形凹槽内。

较佳地，所述框架还包含一凸设于所述环形端面的围绕壁，所述真空压力烘烤设备还包含多个环设于所述围绕壁的顶推装置，各所述顶推装置包括一顶推件，所述顶推件可沿着一相反于所述出气方向的顶推方向顶推所述箱门，以使所述第二气密垫圈迫紧于所述框架的环形端面。

较佳地，所述围绕壁包含一与所述环形端面相连接的围壁部，及多个挡止壁部，所述围壁部具有一内壁面，所述的多个挡止壁部凸设于所述内壁面并与所述环形端面之间形成一沟槽，每两个相邻的挡止壁部之间形成有一与所述沟槽相连通的穿槽，所述箱门还包括一具有所述封闭面的门板，所述门板具有多个位于周缘且彼此相间隔的凸伸部，各所述凸伸部可通过对应的所述穿槽穿伸至所述沟槽内，所述门板可相对于所述围绕壁转动以使各所述凸伸部移动至对应的挡止壁部与环形端面之间，各所述顶推装置为一设置于对应的挡止壁部上的气压缸，各所述顶推装置的顶推件用以顶推对应的凸伸部。

与现有技术相比，本实用新型的真空压力烘烤设备通过各通气管透过对应的出气孔沿着出气方向输送气体至第一环形凹槽内，以顶推第一气密垫圈使其移动至迫紧于封闭面的迫紧位置，从而，箱门的门板与框架之间能保持良好的气密状态，以防止充气过程中腔室内的气体泄漏至外部。此外，腔室抽真空时，通过腔室内的吸力带动箱门的门板往环形端面的方向靠近，第二气密垫圈会迫紧于环形端面上，使得箱门的门板与框架之间能保持良好的气密状态，以防止腔室抽真空时外部气体流入腔室内。

通过以下的描述并结合附图，本实用新型将变得更加清晰，这些附图用于解释本实用新型的实施例。