[实用新型]一种真空压力烘烤设备有效
申请号: | 201320433514.7 | 申请日: | 2013-07-19 |
公开(公告)号: | CN203550506U | 公开(公告)日: | 2014-04-16 |
发明(设计)人: | 赖志勇;赖智忠;邱敬轩 | 申请(专利权)人: | 志圣工业股份有限公司 |
主分类号: | F26B25/08 | 分类号: | F26B25/08;F26B25/12 |
代理公司: | 广州市越秀区海心联合专利代理事务所(普通合伙) 44295 | 代理人: | 任琳 |
地址: | 510850 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 压力 烘烤 设备 | ||
1.一种真空压力烘烤设备,包括:
一烤箱,形成一腔室,及一使所述腔室与外部相连通的开口,所述烤箱包括一界定出所述开口的框架,及一第一气密垫圈,所述框架包含一呈圆环状的环形端面,所述环形端面凹陷形成一用以供所述第一气密垫圈容置的第一环形凹槽;及
一箱门,设置于所述框架并且可开启地封闭所述开口,所述箱门包括一面向所述环形端面并可封闭所述开口的封闭面,及一第二气密垫圈,所述封闭面凹陷形成一用以供所述第二气密垫圈容置的第二环形凹槽,所述第一气密垫圈用以抵接于所述封闭面以防止所述腔室内充气时气体泄漏至外部,所述第二气密垫圈用以抵接于所述环形端面以防止所述腔室抽真空时外部气体流入所述腔室内。
2.如权利要求1所述的真空压力烘烤设备,其特征在于:所述烤箱还包括多个连接于所述框架的通气管,各所述通气管可沿着一朝向所述封闭面的出气方向输送气体至所述第一环形凹槽内,以顶推所述第一气密垫圈使其迫紧所述封闭面。
3.如权利要求2所述的真空压力烘烤设备,其特征在于:所述第一气密垫圈可由一与所述封闭面相间隔的初始位置移动至一迫紧位置,在所述的迫紧位置时,所述第一气密垫圈部分凸伸出所述环形端面并迫紧于所述封闭面。
4.如权利要求3所述的真空压力烘烤设备,其特征在于:所述第二气密垫圈的外径小于所述第一气密垫圈的外径,所述第二气密垫圈间隔位于所述第一气密垫圈内侧,所述第二气密垫圈部分凸伸出所述封闭面。
5.如权利要求4所述的真空压力烘烤设备,其特征在于:所述框架还包含一与所述环形端面相间隔的环形槽面、一连接于所述环形槽面与所述环形端面之间的内周面,及一连接于所述环形槽面与所述环形端面之间且间隔位于所述内周面外侧的外周面,所述环形槽面、所述内周面以及所述外周面共同界定出所述第一环形凹槽,所述环形槽面形成有多个出气孔,各所述通气管与对应的出气孔相连通并可透过对应的出气孔输送气体至所述第一环形凹槽内。
6.如权利要求5所述的真空压力烘烤设备,其特征在于:所述框架还包含一凸设于所述环形端面的围绕壁,所述真空压力烘烤设备还包含多个环设于所述围绕壁的顶推装置,各所述顶推装置包括一顶推件,所述顶推件可沿着一相反于所述出气方向的顶推方向顶推所述箱门,以使所述第二气密垫圈迫紧于所述框架的环形端面。
7.如权利要求6所述的真空压力烘烤设备,其特征在于:所述围绕壁包含一与所述环形端面相连接的围壁部,及多个挡止壁部,所述围壁部具有一内壁面,所述的多个挡止壁部凸设于所述内壁面并与所述环形端面之间形成一沟槽,每两个相邻的挡止壁部之间形成有一与所述沟槽相连通的穿槽,所述箱门还包括一具有所述封闭面的门板,所述门板具有多个位于周缘且彼此相间隔的凸伸部,各所述凸伸部可通过对应的所述穿槽穿伸至所述沟槽内,所述门板可相对于所述围绕壁转动以使各所述凸伸部移动至对应的挡止壁部与环形端面之间,各所述顶推装置为一设置于对应的挡止壁部上的气压缸,各所述顶推装置的顶推件用以顶推对应的凸伸部。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于志圣工业股份有限公司,未经志圣工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320433514.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。