[实用新型]研磨垫整理器及研磨装置有效
申请号: | 201320373724.1 | 申请日: | 2013-06-26 |
公开(公告)号: | CN203317219U | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
发明(设计)人: | 唐强 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | B24B53/017 | 分类号: | B24B53/017;B24B37/04 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 整理 装置 | ||
1.一种研磨垫整理器,其特征在于,包括两个整理盘、两个整理盘驱动电机、支架、支架驱动电机以及驱动臂,所述支架驱动电机安装于所述驱动臂的一端,所述支架驱动电机驱动所述支架旋转,所述整理盘驱动电机安装于所述支架的两端,所述整理盘驱动电机分别驱动对应的整理盘旋转。
2.根据权利要求1所述的研磨垫整理器,其特征在于,还包括清洗液供应管和所述清洗液喷头,所述清洗液喷头安装于所述支架的底部并位于所述两个整理盘之间,所述清洗液供应管和所述清洗液喷头连接,所述清洗液供应管的主体部分沿所述驱动臂的轴向设置于所述驱动臂内。
3.根据权利要求2所述的研磨垫整理器,其特征在于,所述清洗液喷头呈圆盘状,其上分布若干喷口,所述若干喷口分别和所述清洗液供应管连通。
4.根据权利要求1所述的研磨垫整理器,其特征在于,所述整理盘包括基座以及研磨盘,所述研磨盘安装于所述基座上。
5.根据权利要求4所述的研磨垫整理器,其特征在于,所述研磨盘的外表面设有圆形通道和若干由内向外发散的流道,所述流道的内端连接于所述圆形通道,所述流道的外端连接于所述圆磨盘的外边缘,相邻的流道之间的区域均匀设有若干研磨颗粒。
6.根据权利要求5所述的研磨垫整理器,其特征在于,所述若干由内向外发散的流道围绕所述圆形通道均匀设置。
7.根据权利要求5所述的研磨垫整理器,其特征在于,所述流道为抛物线型。
8.根据权利要求5所述的研磨垫整理器,其特征在于,所述流道的宽度由内向外依次变宽。
9.根据权利要求1所述的研磨垫整理器,其特征在于,所述支架呈圆形。
10.一种研磨装置,包括研磨垫、研磨平台和研磨头,所述研磨垫铺设于所述研磨平台上,所述研磨头设置于所述研磨垫上,其特征在于,包括如权利按要求1~9中任意一项所述的研磨垫整理器,所述研磨垫整理器设置于所述研磨垫上。
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