[实用新型]一种光谱分析样品表面定位装置有效
申请号: | 201320370814.5 | 申请日: | 2013-06-26 |
公开(公告)号: | CN203365307U | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 陈永彦;张勇;韩鹏程;屈华阳;赵雷;刘佳 | 申请(专利权)人: | 钢研纳克检测技术有限公司 |
主分类号: | G01N21/01 | 分类号: | G01N21/01;G01N21/25;G01N21/63 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 张军;张云珠 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光谱分析 样品 表面 定位 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及光谱分析技术领域,尤其是一种用于激光诱导击穿光谱分析仪样品密封环境中将大样品分析表面固定到同一高度的定位装置。
背景技术
在光谱分析领域,依靠标准样品绘制工作曲线,然后依据工作曲线对相关样品进行定性或定量分析。此类分析过程都是在光谱分析仪采光位置固定不变的情况下进行的,但采用激光器作为光源激发样品进行分析时,样品或标准样品的分析表面位置的固定相对来讲不太方便,不能保证进入光谱分析仪的采光高度位置的一致性。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种光谱分析样品表面定位装置,用于解决进入光谱分析仪的采光高度位置一致性的问题。为了实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:
本实用新型的光谱分析样品表面定位装置安装于光谱分析仪器中,包括放置有样品板的样品限位支撑框,样品限位支撑框设置在X轴与Y轴组成的运行装置上,样品板的下方设置有弹簧支撑装置;所述样品限位支撑框的两边设置有高度限位凸台,用于限定样品板的分析面的高度;所述X轴与Y轴运行装置为正交连接,包括设置在Y轴之上并沿Y方向运行的X轴,或者包括设置在X轴之上并沿X方向运行的Y轴,且通过各自连接的电机独立控制各轴的运动,实现样品位置的改变。
本实用新型还在于在所述弹簧支撑装置下方设置有样品板顶块;在所述X轴与Y轴之间还设置有XY轴转接板;在所述样品限位支撑框和所述X轴与Y轴运行装置之间还设置有支撑平台;本实用新型所述弹簧支撑装置设计为塔形结构或圆柱形结构;所述样品限位支撑框设计为多种规格或型号。
本实用新型在分析过程中可保持标准样品及待分析样品的上表面均处于同一高度,使分析过程更加方便并使分析结果更加精确;通过调整放置方向,可以保证待分析样品表面限位固定时等离子体激发样品表面产生的光进入分光器而不被遮挡;通过电机控制X轴与Y轴移动实现分析样品表面的原位分析扫描。
附图说明
图1为本实用新型的总体结构示意图。
图2为样品限位支撑框及样品板定位分析表面的结构示意图。
图3为样品限位支撑框高度限位凸台的结构示意图。
附图标记为:样品板1,样品限位支撑框2,弹簧支撑装置3,X轴4,Y轴5,XY轴转接板6,支撑平台7,样品板顶块8。
具体实施方式
以下结合附图以及示例性实施例,进一步详细描述本实用新型的结构设计与组成,使本实用新型的技术解决方案更加清楚。
本实用新型是一种用于在激光诱导击穿光谱分析仪样品密封环境中,将大样品待分析表面固定到同一特定高度的定位装置。本实用新型的激光诱导击穿光谱仪的样品环境为密闭充氩环境,可通过一次放置大块样品并对大块样品的待分析表面进行原位分布扫描统计分析。
参照图1,图2和图3,本实用新型的光谱分析大样品表面定位装置包括样品限位支撑框2,在样品限位支撑框2的两边设置有高度限位凸台,用于限定样品板的分析面的高度,样品板1插装在样品限位支撑框2两边的高度限位凸台下表面,在样品板1的下方设置有弹簧支撑装置3,弹簧支撑装置3中设置有样品板顶块8,样品板顶块8与样品限位支撑框2之间通过螺纹连接;放置有待分析样品的样品板1通过弹簧支撑装置3的支撑放置于样品限位支撑框2中,可方便地调节并确定待分析样品的上表面高度到样品限位支撑框2的凸台下表面的位置。
样品限位支撑框2的两个边用于表面高度限位的定位,而另外两边完全开放,以保证待分析样品表面限位固定时等离子体激发样品表面产生的光进入分光器而不被遮挡。
本实用新型的样品限位支撑框2设置在X轴4与Y轴5组成的运行装置上,X轴4与Y轴5组成的运行装置包括设置在Y轴5之上并沿Y方向运行的X轴4,X轴4和Y轴5通过XY轴转接板6正交连接,且通过各自连接的电机独立控制各轴的运动,经X轴4和Y轴5的电机带动实现样品位置的改变。
本实用新型的实施例之一为样品限位支撑框2和X轴与Y轴组成的运行装置之间还设置有支撑平台7,样品限位支撑框2可放置于支撑平台7上;本实用新型的另一实施例为弹簧支撑装置3设置为塔形或圆柱形;本实用新型的样品限位支撑框2可设计为多种规格或型号,以满足放置不同尺寸大小样品的样品板1的放置。
本实用新型安置于光谱分析仪器的密闭环境中,用于对金属材料的表面成分分析,尤其是对于光谱仪分析过程中的大样品的上表面定位。可在分析过程中保持标准样品及待分析样品的上表面均处于同一高度。
实施例1
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