[实用新型]硅片清洗槽

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种清洗装置，特别涉及一种硅片清洗槽。

背景技术

太阳能光伏行业晶体硅电池的制作过程中会产生含有较高磷浓度的硅氧化层，被称为磷硅玻璃，简称PSG，在硅电池生产时，要进行酸洗将该硅氧化层去除，简称去PSG。目前，传统的清洗设备在清洗时，每个清洗槽内都需要使用纯水，对硅片进行清洗，因此累计使用纯水的量较大，水浪费严重，也提高了生产成本。

实用新型内容

（一）要解决的技术问题

本实用新型要解决的技术问题是提供一种能将清洗槽内的废水再回收利用，提高水利用率的硅片清洗槽。

（二）技术方案

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种硅片清洗槽，包括清洗槽本体1和水泵6，所述清洗槽本体1的侧壁内部成型有腔体，所述腔体内设有垂直隔板2，所述垂直隔板2将所述腔体隔成内腔32和外腔31，所述垂直隔板2的顶部设有缺口，所述内腔32和外腔31通过所述缺口连通，所述外腔31的底部开设有出水口5，所述水泵6安装在所述出水口5上，所述清洗槽本体1的内壁开设有筛孔4，所述清洗槽本体1的底部开设有排污口7，所述排污口7上设有阀8。

进一步的，所述阀8为电磁阀。

进一步的，所述筛孔4的直径大于等于0.5mm且小于等于5mm。

（三）有益效果

本实用新型硅片清洗槽，在对硅片进行清洗时，对清洗槽本体进行持续供水，溢出的水经内腔顶部后流入外腔体，再经泵传送至另一清洗槽，实现对水的循环利用；本实用新型硅片清洗槽，结构简单，实现对水的循环利用，提高了水利用率，降低了水的浪费，减少了生产成本。

附图说明

图1为本实用新型硅片清洗槽的结构示意图。

具体实施方式

参阅图1，本实用新型提供一种硅片清洗槽，包括清洗槽本体1和水泵6，清洗槽本体1的侧壁内部成型有腔体，在该腔体内设有垂直隔板2，该垂直隔板2将腔体隔成内腔32和外腔31，在垂直隔板2的顶部设有缺口，内腔32和外腔31通过该缺口连通，在外腔31的底部开设有出水口5，水泵6安装在该出水口5上，在清洗槽本体1的内壁开设有筛孔4，该筛孔4的直径大于等于0.5mm且小于等于5mm，优选的为3mm，在清洗槽本体1的底部开设有排污口7，在排污口7上设有阀8，本实施例中，该阀8为电磁阀。

本实用新型硅片清洗槽，在对硅片进行清洗时，对清洗槽本体进行持续供水，溢出的水经内腔顶部后流入外腔体，再经泵传送至另一清洗槽，实现对水的循环利用；本实用新型硅片清洗槽，结构简单，实现对水的循环利用，提高了水利用率，降低了水的浪费，减少了生产成本。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。