[实用新型]吸附装置及可吸附软性对象的真空吸附设备有效

专利信息
申请号: 201320281310.6 申请日: 2013-05-22
公开(公告)号: CN203308876U 公开(公告)日: 2013-11-27
发明(设计)人: 徐志宏;蔡鸿儒 申请(专利权)人: 由田新技股份有限公司
主分类号: F16B47/00 分类号: F16B47/00
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 代理人: 何为;李宇
地址: 中国台湾新北市中*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 吸附 装置 软性 对象 真空 设备
【说明书】:

技术领域

本实用新型有关于一种真空吸附设备,尤指一种可用于吸附软性对象的真空吸附设备。

背景技术

有关于真空吸盘的技术主要可分为两种,一种为接触式真空吸盘,另一种为非接触式真空吸盘。

普遍而言,较为常见且应用层面较广泛的是接触式真空吸盘技术,其原理为透过气体由入口处朝出口处的流动所产生的负压,用以直接施加于所欲吸附的对象而达到吸附对象的目的。由于负压直接施加于该对象上,当对象吸附于吸盘上时可于气室内形成类似真空的环境,令对象紧密的结合于吸盘上,因此,接触式吸盘可负荷较为沉重的载物。然而,接触式的真空吸盘于吸附对象时吸盘将会直接接触对象表面,如应用在高精密对象时可能会刮伤对象表面,因而降低生产的良品率,是以,接触式吸盘并不适用于高精密度制程的使用。

为解决上述问题,现今应用于高精密对象的移载作业通常采用非接触式吸盘技术,其原理为透过吸盘于对象表面上所释出的高速气流,透过柏努利现象的原理,于高速气流中产生低压的类真空区域,藉以吸附料片。其中,吸附料片所产生的正向力将与对象的重量与气流施加于对象的反向力抵销,使得对象与吸盘间维持固定间距,而达到非接触式目的。如中国台湾第I331981号专利,揭露了一种非接触式输送装置,其包括有一壳体,一内构件设置于该壳体内部,空气经由该内构件导入环形通道,并由该环形通道以涡漩方式输送至一环形槽并向外吹出以形成一吸附待测对象的真空区域,藉此以邻近但不接触的方式吸附一待测对象,又如中国台湾第M344217号专利揭露一种非接触型真空吸盘,其提供一种无排气孔设计的吸盘本体,利用气体由各该吸附底面及对象间喷出,以形成气体薄膜,而使对象呈漂浮状态而达到非接触式吸附效果,皆属相同原理的应用。

然而,前述接触式吸盘及非接触式吸盘于使用上仍有许多缺失。举接触式吸盘为例,接触式吸盘于吸附对象时,必须将吸盘贴附于对象表面上达到一气密的效果,如果用于吸附多孔隙料片时,必须调整吸盘的位置始能达到吸附的目的,倘若于料片上密布有多个孔隙或沟槽时,甚至不能达到吸附效果。非接触式吸盘虽可以达到吸附多孔隙料片的目的,然而,于固定料片、对象时,由于料片及对象漂浮于半空中,不能稳定的固持,即便现今处理方式会用框架限制料片、对象的侧缘,然而该框架尚需配合料片大小调整,操作上多有不便,且应用于翻面机时,亦有可能因为翻面时所产生的加速度导致料片、对象碰撞吸盘,使得料片或对象受损,这类缺失将使得非接触式吸盘于使用上过于受限。

为避免碰撞的问题,于中国台湾第I338084号专利揭露一种无碰撞非接触式真空吸盘,其藉由一斥力产生部使料片于吸附时产生一正向气流推抵料片避免料片碰撞吸盘。另外于中国台湾第201240009号专利揭露一种非接触式真空吸盘,该吸盘于吸附面上更设有至少一防撞垫,然而上列非接触式真空吸盘仍然必须利用框架限制其位置,始能达到移载料片的目的,且于使用中,料片仍有可能因为移载、翻面时所产生的振荡与吸盘或是吸盘上的防撞垫碰撞,而有导致料片表面重复碰撞防撞垫因而造成料片表面受损的情况。再者,上述所有真空吸附装置于吸附软板时,皆有可能因受力不均而导致软板下垂,使得软板在移载时产生翘曲、皱褶,这些翘曲、皱褶将有可能造成检测上的不便、甚至造成移载时软板受损。

发明内容

本实用新型目的在于提供一种用于吸附多孔隙对象并可避免对象于吸附时向下软垂的真空吸附设备。

为解决上述问题,本实用新型提供一种可吸附软性对象的真空吸附设备,包含有一移动装置,一平面吸板以及一吸附装置。该移动装置包含有至少一连接臂,以及一连接于该连接臂以操作该连接臂移动的驱动装置。该平面吸板连接于该连接臂,该平面吸板包含有一供该软性对象靠置的吸附面,以及多数个设置于该吸附面上并提供负压以吸附该软性对象的真空气孔。该吸附装置包含有一装设于该平面吸板上的吸盘本体,一设置于该吸盘本体底侧并对应于该吸附面的吸附底面,以及一设置于该吸附底面上的摩接片。该吸盘本体内设置有一进气道,该吸附底面包含有一外环部及内环部,该外环部及该内环部之间包含有一由该吸附底面朝该进气道方向呈孔径渐缩的环形流道,气体经由该进气道向该环形流道吹出时形成一真空区域,该摩接片设于该内环部上。该软性对象受该真空区域吸附时依靠于该摩接片并贴附于该吸附底面周侧的吸附面上。

进一步地,该真空区域的吸力与该气体吹出的斥力相互平衡形成该对象与该外环部底侧间的平衡间隙,该摩接片的底侧与该外环部底侧间的距离等于或大于该平衡间隙。

进一步地,该移动装置可为移载装置、翻面装置、或旋转装置。

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