[实用新型]精密对位平台

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种对位平台装置，特别涉及一种整合有磁吸接口以稳固定位其活动平台的创新精密对位平台。

背景技术

按，随着高科技时代的来临，多种制造加工的处理模式已进入奈米等级，众多精密产品于制程中有更高更严苛的精度要求，尤其是光电及晶圆产品，其精密定位技术成为必备条件。

精密加工制程中，对位平台（或称对位滑台）为产业界普遍采用的设备；目前习知对位平台的典型结构型态，主要是在一活动平台与一基座之间横设有数组X轴向与Y轴向的螺杆导动装置，螺杆导动装置的组装座部被定位于基座，螺杆导动装置的伸缩作动端则呈滑动配合状态连结于活动平台；运作时能够通过控制螺杆导动装置的其中单组作动或整体同动等方式，达到驱使活动平台位移或转动以调校加工精准度的目的。

惟查，前述习知对位平台结构于使用上虽确可达到其精密位移调校的功能，但其问题点却是出在于定位的部份，概因，习知对位平台结构无论处于作动状态或定止状态时，其活动平台的支撑力与定位性完全是仰赖螺杆导动装置的连接关系来达成，然而，由于螺杆导动装置与活动平台之间呈滑动配合连接关系，此种组合状态于二者各相连结处难免存在有配合公差，而配合公差累积的结果，势必造成对位平台于定止状态时并无法达到刚性稳固定位状态的问题，亦即对于侧向作用力并无足够的承载支撑能力，此一问题对于三轴配置型态的对位平台而言尤为严重，因其活动平台定止时，其中一导动轴呈较大自由度连结状态，故承载支撑能力较弱；而另一种四轴配置型态习知对位平台，其侧向承载力虽优于前述三轴配置型态，但其缺点是制造成本大幅提高，且仍旧存在组合累进公差问题而无法达到刚性稳固支撑状态；是以综合上揭习知对位平台的结构设计，其加工过程中当活动平台受力达一定程度时，往往容易产生抖振、偏移现象而严重影响到最终产品加工精度与质量，如此而难以符合产业界预期的高精度要求，实有必要再加以思索突破。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种精密对位平台。

为达到上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种精密对位平台包括：一底座，为具有一面积与厚度的座体型态而包括一着置面以及一构件装设面；一活动平台，设于底座的构件装设面上方一间隔高度位置处，该活动平台包括一加工台面以及一底面；至少两组导动装置，呈不同作动轴向分布型态组设连接于底座的构件装设面与活动平台的底面之间，导动装置藉以驱使控制活动平台产生平移调整运动；一可控制式磁吸接口，设于底座的构件装设面与活动平台的底面之间，包括：一导磁面域，设于底座预定区域；一磁吸座，组设定位于活动平台底面，该磁吸座能够通过控制朝底座的导磁面域产生一磁吸作用力。

本实用新型对照先前技术而言，当精密对位平台的活动平台通过导动装置的驱动达成对位时，能够通过可控制式磁吸接口的启动，令活动平台获得加强定位效果，消除构件组合间隙与累进公差，且有效支撑对抗活动平台的侧向力、重压力及滚压作用力，进而达到增益精密对位平台的活动平台结构强度与稳固性、大幅提升加工精度质量的实用进步性。

附图说明

图1为本实用新型结构较佳实施例的分解立体图。

图2为本实用新型结构较佳实施例的组合立体图。

图3为本实用新型结构较佳实施例的组合剖视图。

图4为本实用新型的磁吸座内部结构立体剖视图。

图5为本实用新型可通过喷气孔将气压喷入气隙中形成气浮作用的状态示意图。

图6为本实用新型能够有效支撑对抗来自活动平台上于加工过程中所产生的侧向力及重压力的功效示意图。

具体实施方式

如图1、2、3所示，本实用新型精密对位平台A包括下述构成：

一底座10，为具有一面积与厚度的座体型态而包括一着置面11以及一构件装设面12；

一活动平台20，设于底座10的构件装设面12上方一间隔高度位置处，该活动平台20包括一加工台面21以及一底面22；

至少两组导动装置30，呈不同作动轴向分布型态组设连接于底座10的构件装设面12与活动平台20的底面22之间，导动装置30藉以驱使控制活动平台20产生平移调整运动；

一可控制式磁吸接口40，设于底座10的构件装设面12与活动平台20的底面22之间，包括：

一导磁面域41，设于底座10预定区域；

一磁吸座42，组设定位于活动平台20底面，该磁吸座42能够通过控制朝底座10的导磁面域41产生一磁吸作用力。