[实用新型]精密对位平台

权利要求书

1.一种精密对位平台，其特征在于包括：

一底座，包括一着置面以及一构件装设面；

一活动平台，设于底座的构件装设面上方一间隔高度位置处，该活动平台包括一加工台面以及一底面；

至少两组导动装置，呈不同作动轴向分布型态组设连接于底座的构件装设面与活动平台的底面之间，导动装置藉以驱使控制活动平台产生平移调整运动；

一可控制式磁吸接口，设于底座的构件装设面与活动平台的底面之间，包括：

一导磁面域，设于底座预定区域；

一磁吸座，组设定位于活动平台底面，该磁吸座通过控制导磁面域产生一磁吸作用力。

2.根据权利要求1所述的精密对位平台，其特征在于，所述可控制式磁吸接口为一电磁式吸附接口，所述磁吸座包括至少两组线圈组。

3.根据权利要求1所述的精密对位平台，其特征在于，所述可控制式磁吸接口为一机械式磁吸座。

4.根据权利要求2或3所述的精密对位平台，其特征在于，所述磁吸座与所述导磁面域之间留设有一气隙；磁吸座的底面间隔布设有至少两个立向的喷气孔，磁吸座预设有供气导流道，从外部将气压导引至喷气孔再喷入气隙中形成气浮作用。