[实用新型]一种智能光刻版有效
| 申请号： | 201320162219.2 | 申请日： | 2013-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN203250106U | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 关世瑛;杨忠武;王金秋 | 申请（专利权）人： | 上海安微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/44 | 分类号： | G03F1/44 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200233 上海市徐汇*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 智能 光刻 | ||
【权利要求书】：
1.一种智能光刻版，其特征在于：
A、具有特征尺寸的标识（2），可不使用专用测量设备，使用显微镜就可以读出特征尺寸的实际尺寸，提高工作效率，降低投入资金；
B、光刻版（0）的特征尺寸的标识（2），设置在光刻版（0）的划片线(1)内；
C、光刻版（0）的特征尺寸的标识（2），由一组单元(31)、(32)、(33)、(34)形成，一组单元不限于4个，可以为更多个；
D、光刻版（0）的特征尺寸的标识（2）的每个单元，由设计指定目标尺寸的保留区和不保留区共同形成；
E、光刻版（0）的特征尺寸的标识（2）的每个单元内的保留区和不保留区之间，与目标尺寸存在等量的差值，各单元之间的等量的差值呈等间隔的阶梯变化；
F、每个单元内标记数值（4）为读数时特征尺寸的实际数值。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
