[实用新型]一种设有吸振装置的微动模块

说明书

技术领域

本实用新型属于光刻装置的技术领域，具体涉及一种设有吸振装置的微动模块。 

背景技术

在光刻机中，物镜系统相对其他部件来说，体积大，重量达数百公斤，不宜移动，所以光刻是靠硅片台和掩膜台的超精密同步扫描运动，完成曝光实现的。随着大规模集成电路器件集成度的不断提高，光刻分辨力的不断增强，对光刻机的特征线宽指标要求也在不断提升，其对光刻机中硅片台和掩模台等运动分系统的动态性能要求也越来越高，硅片台和掩膜台统称工件台。 

工件台的运动分系统具有较高的运动加速度和运动速度，运动部件的大惯性力和其他外部因素将引起光刻机工作核心部件-微动模块的振动，从而影响曝光的质量。 

振动控制一般可以通过减弱振源、在振源与受控对象之间串联隔振体系或在受控对象上附加吸振装置等方式减小受控对象对振源激励的响应。 

针对基础框架等外部因素引起的振动大多采用将微动模块形成一个独立的内部系统来实现主动减震和被动隔振。比如通过汽浮结构和重力补偿器进行外部振动的隔离；或者采用分体式设计的空气重力补偿器及音圈电机，由空气重力补偿器支撑微动模块的重力，而使音圈电机仅为微动模块提供定位功能以及提供驱动力以产生加速度使微动模块上升的运动，在一定程度上提高了微动模块的定位精度。 

微动模块基本不受基础框架振动的影响，但随着光刻分辨力要求的不断提 高，工件台运动分系统的系统带宽变大，因微动模块固有频率接近频宽导致振幅变大，严重影响了曝光质量。目前一般是通过增厚微动模块中的微动板来提高微动模块固有频率，但该方案不仅增加成本和耗能，而且后期微调困难，调节余地有限。 

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是对微动模块因自身关惯性力产生振动的控制，为了克服以上不足，提供了一种设有吸振装置的微动模块。 

为了解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：所述设有吸振装置的微动模块包括微动板、设置在微动板下部的隔振装置、设置在微动板上部的承载装置和设置在微动板上的吸振装置。 

进一步，所述吸振装置包括传递支架、配重块、弹性件及连接所述传递支架和配重块的连接件，所述弹性件设置在所述传递支架和配重块之间；所述吸振装置通过所述传递支架与所述微动板连接。 

进一步，所述传递支架包括与所述微动板平行的传递板。 

进一步，所述配重块包括设置在所述传递板上侧的上配重块和设置在所述传递板下侧的下配重块，所述弹性件包括连接传递板和上配重块的第一橡胶块及连接传递板和下配重块的第二橡胶块。 

进一步，所述连接件包括连接所述上配重块和下配重块的紧定螺钉和套在所述紧定螺钉外的套筒；所述套筒穿设在所述传递板的套筒孔上，上紧所述紧定螺钉，所述上配重块和下配重块压紧所述弹性件。通过套筒高度可以准确定位弹性件的压缩量，该压缩量用于调整弹性件的垂向刚度，保证吸振装置具有固定的模态。 

进一步，所述套筒的外直径小于所述套筒孔直径。套筒与减振板不接触，可无摩擦相对滑动。 

进一步，所述吸振装置设置在所述微动板模态振型位移最大的地方。 

进一步，所述吸振装置的设置方式为悬于微动板下方、挂于微动板一侧或嵌入微动板内部。 

进一步，所述弹性件的材料为丁腈橡胶、氯丁橡胶或天然橡胶，所述配重块的材料为金属材料。 

本实用新型通过吸振装置的减振作用，通过对微动模块中的微动板布置合理的吸振装置，可以有效的压制因微动模块固有频率接近带宽造成的较高的振幅，从而可以降低对微动模块固有频率提高的要求，降低了加工难度与成本，并且可以通过调节吸振装置简单快速有效的控制微动模块的振动。 

附图说明

图1是本实用新型实施例1的立体结构示意图； 

图2是本实用新型实施例1的主视图； 

图3是图1中吸振装置的结构示意图； 

图4有无吸振装置时微动板的加速度响应幅频比较图； 

图5是本实用新型实施例2的局部视图； 

图6是本实用新型实施例3的局部剖视图。 

图中所示： 

1-微动板，11-第一顶角，12-第二顶角，13-第三顶角，14-第四顶角； 

2-隔振装置，21-重力补偿气囊组件，22-垂向电机组件； 

3-承载装置，31-粗动组件，32-承板台，33-方镜组件；