[实用新型]光刻胶前烘装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及显示装置生产过程中的光刻胶前烘（Soft Bake）处理技术领域，具体涉及一种光刻胶前烘装置。

背景技术

液晶显示器（Liquid Crystal Display，LCD）由于具有画面稳定、图像逼真、消除辐射、节省空间以及节省能耗等优点，现已占据了平面显示领域的主导地位。TFT-LCD（Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器）是目前主流的液晶显示器，而薄膜晶体管（Thin Film Transistor，TFT）阵列基板以及彩膜基板是其显示面板的主要构成部件。阵列基板以及彩膜基板的制备工艺过程往往关系着整个显示装置的良率。

在阵列基板以及彩膜基板的生产工艺中，光刻工艺是非常重要的；其中必用到的光刻胶是指经过紫外光、电子束、离子束、Y射线等照射或辐射后，其溶解度会发生变化的一种耐蚀薄膜材料，也称为光致抗蚀剂，光刻胶由树脂、光敏物质和有机溶剂等成分组成。

在光刻胶涂布工艺完成后，接下来要进行真空减压干燥处理以及光刻胶前烘处理。真空减压干燥装置以及光刻胶前烘装置通常设置在光刻胶涂布机的下游，其主要作用是进一步除去涂布光刻胶中的有机溶剂以及增强光刻胶与基板的粘着力，防止曝光区域在显影时因粘着力不够而发生膜脱落造成不良。

在光刻胶前烘处理完成后，接着进行曝光、后烘以及显影处理等。在显影装置下游通常设置有AOI（Automatic Optic Inspection，自动光学检测）外观检查机，其用以检测mura（不均）、particle（微粒）以及异物等；钠灯检测装置通常也设置在显影装置下游，其用于检测显影mura等。但是，对于光刻胶涂布工艺完成之后到光刻胶前烘处理完成之间的过程产生的mura以及其他缺陷往往很难检测到，并且无法补救，这样就可能会造成产品良率的下降。

实用新型内容

（一）要解决的技术问题

本实用新型的目的在于提供一种对于光刻胶涂布工艺完成之后到光刻胶前烘处理完成之间的过程产生的mura以及其他缺陷进行检测并且补救的光刻胶前烘装置，用于提高显示装置的产品良率。

（二）技术方案

本实用新型技术方案如下：

一种光刻胶前烘装置，包括热板以及控制机构，还包括分别与所述控制机构通信连接的检测光刻胶涂层上缺陷的缺陷检测机构以及修复所述缺陷的缺陷修复机构；所述控制机构接收所述缺陷检测机构的检测结果并根据所述检测结果启动所述缺陷修复机构进行缺陷修复。

优选的，所述缺陷检测机构包括光学增强元件。

优选的，所述光学增强元件包括显微镜和/或监测灯。

优选的，所述监测灯为钠灯。

优选的，所述缺陷检测机构连接驱动机构，所述驱动机构驱动所述缺陷检测机构在所述光刻胶涂层上方运动。

优选的，所述驱动机构包括CDA气缸。

优选的，所述缺陷检测机构与边缘光刻胶去除装置连接并随所述边缘光刻胶去除装置移动。

优选的，所述缺陷修复机构包括真空减压机。

（三）有益效果

本实用新型的一种光刻胶前烘装置通过设置分别与现有技术中光刻胶前烘装置的控制机构连接的缺陷检测机构以及缺陷修复机构，这样就能够通过缺陷检测机构检测光刻胶涂布工艺完成之后到光刻胶前烘处理完成之间的过程产生的mura以及其他缺陷，并且通过缺陷修复机构根据检测结果补救检测到的缺陷；因此，本实用新型的一种光刻胶前烘装置能够在很大程度上提高显示装置的产品良率，具有良好的应用前景。

附图说明

图1是本实用新型实施例中光刻胶前烘装置的机构连接示意图；

图2是本实用新型实施例中光刻胶前烘装置的结构示意图。

图中，1：基板；2：边缘光刻胶去除装置；3：真空减压机；4：监测灯。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式做进一步描述。以下实施例仅用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。