[实用新型]光刻胶前烘装置有效

专利信息
申请号: 201320126343.3 申请日: 2013-03-19
公开(公告)号: CN203117642U 公开(公告)日: 2013-08-07
发明(设计)人: 齐永莲;黎午升;舒适;惠官宝 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G03F7/38 分类号: G03F7/38
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王莹
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 光刻 胶前烘 装置
【权利要求书】:

1.一种光刻胶前烘装置,包括热板以及控制机构,其特征在于,还包括分别与所述控制机构通信连接的检测光刻胶涂层上缺陷的缺陷检测机构以及修复所述缺陷的缺陷修复机构;所述控制机构接收所述缺陷检测机构的检测结果并根据所述检测结果启动所述缺陷修复机构进行缺陷修复。

2.根据权利要求1所述的光刻胶前烘装置,其特征在于,所述缺陷检测机构包括光学增强元件。

3.根据权利要求2所述的光刻胶前烘装置,其特征在于,所述光学增强元件包括显微镜和/或监测灯。

4.根据权利要求3所述的光刻胶前烘装置,其特征在于,所述监测灯为钠灯。

5.根据权利要求1-4任意一项所述的光刻胶前烘装置,其特征在于,所述缺陷检测机构连接驱动机构,所述驱动机构驱动所述缺陷检测机构在所述光刻胶涂层上方运动。

6.根据权利要求5所述的光刻胶前烘装置,其特征在于,所述驱动机构包括CDA气缸。

7.根据权利要求1-4任意一项所述的光刻胶前烘装置,其特征在于,所述缺陷检测机构与边缘光刻胶去除装置连接并随所述边缘光刻胶去除装置移动。

8.根据权利要求1-4或6任意一项所述的光刻胶前烘装置,其特征在于,所述缺陷修复机构包括真空减压机。

9.根据权利要求7所述的光刻胶前烘装置,其特征在于,所述缺陷修复机构包括真空减压机。

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