[实用新型]一种具有辅助开口的掩模板

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种掩模板，具体涉及一种具有辅助开口的掩模板及其制作方法，属于OLED掩模板制造领域。

背景技术

OLED相对其它显示屏具有可视范围宽、响应快、功耗小等突出优点，因此OLED显示技术日益受到人们的关注。蒸镀工序是OLED显示技术的一个重要环节，蒸镀中需要用到蒸镀用的掩模板，有机蒸镀材料通过掩模板的开口蒸镀淀积到ITO玻璃面，其中掩模板的开口精度会直接影响到蒸镀质量。目前常用的一种掩模用具，如图1所示是一种具有掩模开口的掩模板，图1中，11为掩模板主体，12为外框，13为掩模区域，14为焊点，掩模板制作好后，需要将其绷网使板面及掩模区域均受到一定的拉力，其目的是使板面平整且使掩模区域开口间的狭长金属丝绷紧（保证开口精度，防止下垂），绷网的具体操作通常是：将掩模板通过固定孔固定到绷网机构上→绷拉（使板面平整且使金属丝绷紧）→激光焊接（将掩模板主体11固定到外框12上，焊点为14）→沿半刻线将半刻线（图中未示出半刻线）以外的区域撕下，即已经固定好掩模板。但固定后掩模区域13的中间部分受力均匀，两边邻近掩模板金属部分受力较小，开口间的狭长金属丝会下垂，致使两边的开口精度不高，从而影响蒸镀质量，为此有必要提出一种掩模板结构解决此问题。

实用新型内容

有鉴于此，需要克服现有技术中的上述缺陷中的至少一个。本实用新型提供了一种具有辅助开口的掩模板及其制作方法。一种具有辅助开口的掩模板，包括掩模板主体，所述掩模板主体上有掩模图案，所述掩模图案由掩模开口组成；辅助开口图案，所述辅助开口图案由辅助开口构成，所述辅助开口位于所述掩模板主体上，并分布在所述掩模图案两侧，所述辅助开口长度方向与所说掩模开口长度方向平行。

根据本专利背景技术中对现有技术所述，如图1所示，将掩模板通过固定孔固定到绷网机构上绷拉，使板面平整且使金属丝绷紧后进行激光焊接（将掩模板主体11固定到外框12上，焊点为14）并沿半刻线将半刻线以外的区域撕下，即已经固定好掩模板。但固定后掩模区域13的中间部分受力均匀，两边邻近掩模板金属部分受力较小，开口间的狭长金属丝会下垂，致使两边的开口精度不高，从而影响蒸镀质量，本实用新型提供的具有辅助开口的掩模板则加入一个辅助结构，使受力较小的区域外移至辅助开口上，从而保证了掩模图案区域中间和两侧达到预期的开口精度，保证蒸镀质量。

另外，根据本实用新型公开的掩模板的还具有如下附加技术特征：

进一步地，所述掩模图案的数量大于等于1，所述辅助开口图案与所述掩模图案数量比为2：1。

可选地，当两个所述掩模图案排成一列时，在所述掩模图案之间有一组辅助开口，即两个掩模图案共用一组辅助开口。

当两个所述掩模图案排成一列时，基于掩模板及掩模图案整体设计的考虑，可以将两个所述掩模图案之间两组辅助开口图案合并为一组辅助开口图案，同时使辅助开口避开掩模淀积区域。

优选地，所述掩模开口和所述辅助开口的开口结构相同且为通孔。

如此，可以使掩模开口和辅助开口受力状况一致，保证之后的蒸镀质量。

可选地，所述辅助开口和所述掩模开口的开口形状相同但为封闭孔。

辅助开口部分只在掩模板的一面蚀刻掉一定的厚度，另一面不进行蚀刻，蒸镀时有机材料不会通过辅助开口而淀积到衬底上，因此设置辅助开口到掩模开口的距离时不必考虑避开掩模区域，根据实际需要使其起到提高掩模区域边缘的开口精度。

进一步地，所述辅助开口间距和所述掩模开口间距是所述辅助开口宽度和所述掩模开口宽度的2倍。

进一步地，所述辅助开口图案与所述掩模图案临近的一侧与所述掩模图案的距离是所述掩模开口之间距离的1倍以上（包含1倍），一定的距离能够使辅助开口能够形成更好的受力分布，使蒸镀的效果更好，同时避开掩模区域。

所述辅助开口图案与所述掩模图案临近的一侧与所述掩模图案的距离要使辅助开口能够完全避开蒸镀掩模区域，同时也要起到辅助作用。

进一步地，所述辅助开口间距和所述掩模开口间距相同，保证两者间距的一致也会使得受力分布更加均衡，保证好的蒸镀效果。

进一步地，对于由铟瓦合金制成的掩模板辅助开口数为1-5；

优选地，掩模板辅助开口数为2-4；

进一步优选地，所述辅助开口数量是3。

其中所述掩模板开口数与绷网张力、蚀刻参数、掩模板质地有关，对于不同参数及材质可以通过实验确定最佳值。

本实用新型还提供了相应的制作方法，其特征包括：

S1,将制作掩模板的基板的两面压贴感光干膜；