[实用新型]一种日夜两用型滤光片有效
申请号: | 201320076004.9 | 申请日: | 2013-02-19 |
公开(公告)号: | CN203164462U | 公开(公告)日: | 2013-08-28 |
发明(设计)人: | 奂微微;黄兴桥 | 申请(专利权)人: | 东莞五方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;B32B9/04 |
代理公司: | 东莞市冠诚知识产权代理有限公司 44272 | 代理人: | 何恒韬 |
地址: | 523000 广东省东莞*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 日夜 两用 滤光 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种滤光片,特别涉及一种日夜两用型滤光片。
背景技术
日夜两用型滤光片是能通过一可见光带和一红外光窄带,同时能阻止900-1100nm近红外光通过的滤光片,主要用于CCD或CMOS成像系统中,白天可以获得真彩色图像,晚上可以获得清晰的黑白图像,在数码像机、数码录像机、监控用摄像机、电脑摄像头、手机摄像、可视电话、电子玩具、红外感应等摄像设备领域具有广泛的应用。在现有技术中,日夜两用型滤光片往往在透射波段内平均透射率难以达到98%,而截止波段透射率则高于1%,中心波长易出现温飘,膜层牢固度较差,易出现色差,易出现次峰通带,易产生光干扰问题,因而难以满足CCD或CMOS成像系统对日夜两用型滤光片的要求。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足,提供一种380-620nm透射波段与840-860nm透射波段的平均透射率高,而700-780nm截止波段与900-1100nm截止波段的透射率低,能有效截除次峰,中心波长无温飘,膜层牢固度强,无色差均匀性好,不易出现次峰通带,不易产生光干扰问题的日夜两用型滤光片。
为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案是:一种日夜两用型滤光片,包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的51层膜,该51层膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜层和高折射率的二氧化钛TiO2膜层多次交替堆叠组成,该51层膜从内至外依次为:第1层,SiO2膜层,厚度为108.5-109nm;第2层,TiO2膜层,厚度为7.5-8nm;第3层,SiO2膜层,厚度为36-36.4nm;第4层,TiO2膜层,厚度为100.5-101nm;第5层,SiO2膜层,厚度为158.5-159nm;第6层,TiO2膜层,厚度为18.5-19nm;第7层,SiO2膜层,厚度为5.6-5.9nm;第8层,TiO2膜层,厚度为180-180.4nm;第9层,SiO2膜层,厚度为48.6-49nm;第10层,TiO2膜层,厚度为8-8.4nm;第11层,SiO2膜层,厚度为74.5-75nm;第12层,TiO2膜层,厚度为88-88.4nm;第13层,SiO2膜层,厚度为136.5-137nm;第14层,TiO2膜层,厚度为80.5-81nm;第15层,SiO2膜层,厚度为142.5-143nm;第16层,TiO2膜层,厚度为46.5-46.8nm;第17层,SiO2膜层,厚度为15-15.4nm;第18层,TiO2膜层,厚度为18-18.4nm;第19层,SiO2膜层,厚度为122-122.4nm;第20层,TiO2膜层,厚度为90-90.4nm;第21层,SiO2膜层,厚度为158-158.49nm;第22层,TiO2膜层,厚度为8-8.4nm;第23层,SiO2膜层,厚度为165-165.4nm;第24层,TiO2膜层,厚度为87-87.4nm;第25层,SiO2膜层,厚度为135.5-136nm;第26层,TiO2膜层,厚度为83.5-84nm;第27层,SiO2膜层,厚度为138.5-139nm;第28层,TiO2膜层,厚度为91.5-92nm;第29层,SiO2膜层,厚度为165.5-166nm;第30层,TiO2膜层,厚度为23.8-24.2nm;第31层,SiO2膜层,厚度为15.5-16nm;第32层,TiO2膜层,厚度为75.5-76nm;第33层,SiO2膜层,厚度为13.7-14.2nm;第34层,TiO2膜层,厚度为27.5-27.8nm;第35层,SiO2膜层,厚度为178-178.4nm;第36层,TiO2膜层,厚度为108.5-109nm;第37层,SiO2膜层,厚度为177-177.4nm;第38层,TiO2膜层,厚度为112-112.4nm;第39层,SiO2膜层,厚度为177.5-178nm;第40层,TiO2膜层,厚度为109-109.4nm;第41层,SiO2膜层,厚度为158.5-159nm;第42层,TiO2膜层,厚度为6-6.4nm;第43层,SiO2膜层,厚度为13.5-13.8nm;第44层,TiO2膜层,厚度为93-93.4nm;第45层,SiO2膜层,厚度为16-16.4nm;第46层,TiO2膜层,厚度为14.5-15nm;第47层,SiO2膜层,厚度为167-167.4nm第48层,TiO2膜层,厚度为11-11.3nm;第49层,SiO2膜层,厚度为18.6-19nm;第50层,TiO2膜层,厚度为100.5-100.8nm;第51层,SiO2膜层,厚度为82.6-83nm。
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