[实用新型]一种日夜两用型滤光片有效

专利信息
申请号: 201320076004.9 申请日: 2013-02-19
公开(公告)号: CN203164462U 公开(公告)日: 2013-08-28
发明(设计)人: 奂微微;黄兴桥 申请(专利权)人: 东莞五方光电科技有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;B32B9/04
代理公司: 东莞市冠诚知识产权代理有限公司 44272 代理人: 何恒韬
地址: 523000 广东省东莞*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 日夜 两用 滤光
【权利要求书】:

1.一种日夜两用型滤光片,其特征在于:包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的51层膜,该51层膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜层和高折射率的二氧化钛TiO2膜层多次交替堆叠组成,该51层膜从内至外依次为:第1层,SiO2膜层,厚度为108.5-109nm;第2层,TiO2膜层,厚度为7.5-8nm;第3层,SiO2膜层,厚度为36-36.4nm;第4层,TiO2膜层,厚度为100.5-101nm;第5层,SiO2膜层,厚度为158.5-159nm;第6层,TiO2膜层,厚度为18.5-19nm;第7层,SiO2膜层,厚度为5.6-5.9nm;第8层,TiO2膜层,厚度为180-180.4nm;第9层,SiO2膜层,厚度为48.6-49nm;第10层,TiO2膜层,厚度为8-8.4nm;第11层,SiO2膜层,厚度为74.5-75nm;第12层,TiO2膜层,厚度为88-88.4nm;第13层,SiO2膜层,厚度为136.5-137nm;第14层,TiO2膜层,厚度为80.5-81nm;第15层,SiO2膜层,厚度为142.5-143nm;第16层,TiO2膜层,厚度为46.5-46.8nm;第17层,SiO2膜层,厚度为15-15.4nm;第18层,TiO2膜层,厚度为18-18.4nm;第19层,SiO2膜层,厚度为122-122.4nm;第20层,TiO2膜层,厚度为90-90.4nm;第21层,SiO2膜层,厚度为158-158.49nm;第22层,TiO2膜层,厚度为8-8.4nm;第23层,SiO2膜层,厚度为165-165.4nm;第24层,TiO2膜层,厚度为87-87.4nm;第25层,SiO2膜层,厚度为135.5-136nm;第26层,TiO2膜层,厚度为83.5-84nm;第27层,SiO2膜层,厚度为138.5-139nm;第28层,TiO2膜层,厚度为91.5-92nm;第29层,SiO2膜层,厚度为165.5-166nm;第30层,TiO2膜层,厚度为23.8-24.2nm;第31层,SiO2膜层,厚度为15.5-16nm;第32层,TiO2膜层,厚度为75.5-76nm;第33层,SiO2膜层,厚度为13.7-14.2nm;第34层,TiO2膜层,厚度为27.5-27.8nm;第35层,SiO2膜层,厚度为178-178.4nm;第36层,TiO2膜层,厚度为108.5-109nm;第37层,SiO2膜层,厚度为177-177.4nm;第38层,TiO2膜层,厚度为112-112.4nm;第39层,SiO2膜层,厚度为177.5-178nm;第40层,TiO2膜层,厚度为109-109.4nm;第41层,SiO2膜层,厚度为158.5-159nm;第42层,TiO2膜层,厚度为6-6.4nm;第43层,SiO2膜层,厚度为13.5-13.8nm;第44层,TiO2膜层,厚度为93-93.4nm;第45层,SiO2膜层,厚度为16-16.4nm;第46层,TiO2膜层,厚度为14.5-15nm;第47层,SiO2膜层,厚度为167-167.4nm第48层,TiO2膜层,厚度为11-11.3nm;第49层,SiO2膜层,厚度为18.6-19nm;第50层,TiO2膜层,厚度为100.5-100.8nm;第51层,SiO2膜层,厚度为82.6-83nm。

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