[实用新型]一种化学液分配系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及化学液分配设计技术领域，尤其涉及一种不同配比化学液分配系统。

背景技术

集成电路通常采用半导体晶片来制造，而这种晶片通常是易脆材料制作的，在制作集成电路元器件期间，这些晶片通常要经过若干处理步骤，在处理过程中晶片会暴露于或者承受各种不同配比的溶液的处理，以达到特定效果，而这些不同配比的化学液需经过一个分配系统输送至工作机台。如果化学液分配系统设计的不合理或者不完善，则会导致设备的稳定性及生产效率降低。

现有的不同配比化学液分配系统如图1所示，此分配系统中化学液A从第一化学液通路流入，由第一气动阀控制进入缓存罐中，再由第二气动阀和计量泵来控制其流量，而化学液B则由厂家供应，从第二化学液通路流入，利用手阀、第三气动阀、及节流器来控制其流量，使其进入在线混合单元中与化学液A进行混合，最后输送到机台。此种设计中，由于厂端直接供液，压力波动较大，化学液B的流量受其影响较大；并且只有一套分配系统，对于不同配比的化学液来说，系统管路中的残留液体会影响不同配比时液体的配比比例，使液体配比比例不够精确，从而影响系统工作的稳定性。

实用新型内容

本实用新型主要解决现有的不同配比化学液分配系统在工艺上存在流量波动大、化学液配比比例受系统管路中残留液体影响大的技术问题。

本实用新型提供一种化学液分配系统，该系统包括分别与机台相连的交替工作的两套相同的子系统，所述子系统包括与在线混合单元相连的第一化学液通路和第二化学液通路，

其中，第一化学液通路包括依次连接的：

第一气动阀，用于控制化学液流入；

第一缓冲罐，用于消除厂端供液压力波动对流量的影响；

第二气动阀，用于配合所述第一缓冲罐补液、排液；

计量泵，用于控制化学液流量；

其中，第二化学液通路包括依次连接的：

第三气动阀，用于控制化学液流入；

第二缓冲罐，用于消除厂端供液压力波动对流量的影响；

第四气动阀，用于配合所述第二缓冲罐补液、排液；

隔膜泵，用于控制化学液流量；

脉冲消除装置，用于消除流量脉冲，使流量稳定；

其中，在线混合单元用于将所述第一化学液通路和第二化学液通路流出的化学液进行混合后传输至机台。

优选的，所述第一缓冲罐和第二缓冲罐的底部、中部和上方各有一个液位传感器，当底部液位传感器发出信号时，表明相应的缓冲罐内的液体已经排放完毕；当中部液位传感器发出信号时，表明相应的缓冲罐内的液体到达预定位置；当上方液位传感器发出信号时，表明相应的缓冲罐补液完成。

优选的，所述第二化学液通路适用于厂端直接供液。

本实用新型可以避免由于厂端供液时压力波动对化学液流量的影响，同时双系统设计提高了设备的稳定性及配比比例精准度，易于实现。

附图说明

图1是现有的化学液分配系统结构图；

图2是本实用新型系统的结构图。

具体实施方式

下面结合附图及具体实施例对本实用新型作详细的说明。

图2为本实用新型系统的结构图，本实用新型提供一种化学液分配系统，该系统包括分别与机台相连的交替工作的两套相同的子系统，所述子系统包括与在线混合单元相连的第一化学液通路和第二化学液通路，

其中，第一化学液通路包括依次连接的：

第一气动阀，用于控制化学液流入；

第一缓冲罐，用于消除厂端供液压力波动对流量的影响；

第二气动阀，用于配合所述第一缓冲罐补液、排液；

计量泵，用于控制化学液流量；

其中，第二化学液通路包括依次连接的：

第三气动阀，用于控制化学液流入；

第二缓冲罐，用于消除厂端供液压力波动对流量的影响；

第四气动阀，用于配合所述第二缓冲罐补液、排液；

隔膜泵，用于控制化学液流量；

脉冲消除装置，用于消除流量脉冲，使流量稳定；

其中，在线混合单元用于将所述第一化学液通路和第二化学液通路流出的化学液进行混合后传输至机台。

优选的，所述第一缓冲罐和第二缓冲罐的底部、中部和上方各有一个液位传感器，当底部液位传感器发出信号时，表明相应的缓冲罐内的液体已经排放完毕；当中部液位传感器发出信号时，表明相应的缓冲罐内的液体到达预定位置；当上方液位传感器发出信号时，表明相应的缓冲罐补液完成。

优选的，所述第二化学液通路适用于厂端直接供液。