[实用新型]一种采用厚膜加热的食品加工机

说明书

本实用新型涉及食品加工技术领域，具体地说，涉及一种采用厚膜加热的食品加工机。 

目前市场上的食品加工机，例如豆浆机、食品料理机等的加热方式主要有在机头（豆浆机）安装管状发热体、在杯底安装盘状包括电热管或者陶瓷加热器等发热体、在加热容器下部外围焊接发热管或者设置电磁感应线圈等等。这些加热技术的加热接触面小、加热速度慢、热效率低、热惯性大的缺陷很明显。上述加热方式在的加热过程中普遍存在糊管、糊底等问题。糊管后容易烧焦，清洗困难。

为了解决上述问题，出现了采用厚膜进行加热的食品加工机。厚膜俗称电热膜、发热膜、加热膜，其特点是热效率高、加热速度快、热惯性小。由于热惯性小，不存在刚开始加热时的预热阶段和断电后继续煮水的阶段，可以对食品加工工艺的温度控制进行精确控温。

但是现有采用厚膜加热的食品加工机，都是在食品加工机加热容器底部设置厚膜，尽管厚膜的热惯性小，但同样存在容易糊底的问题。

本实用新型针对现有食品加工机的加热方式存在加热接触面小、加热速度慢、热效率低、热惯性大、容易糊底的问题，提供一种采用厚膜加热的食品加工机。

本实用新型所需要解决的技术问题，可以通过以下技术方案来实现：

一种采用厚膜加热的食品加工机，包括加热容器，其特征在于：加热容器下部侧壁表面设有厚膜介电层，厚膜介电层上设有厚膜电阻层，厚膜电阻层具有至少一对连接电源的接入端，所述厚膜电阻层上设有绝缘层，所述加热容器的热膨胀系数不大于厚膜介电层、厚膜电阻层和绝缘层的热膨胀系数。

本实用新型中，所述厚膜电阻层在厚膜介电层上形成电阻轨迹，所述电阻轨迹具有至少一对连接电源的接入端，电阻轨迹上串联有突跳式温控器。

本实用新型中，所述厚膜电阻层在厚膜介电层上形成电阻轨迹，所述电阻轨迹具有至少一对连接电源的接入端，所述电阻轨迹包括正常工作区和干烧敏感区，干烧敏感区内厚膜电阻轨迹宽度小于正常工作区内厚膜电阻轨迹宽度，突跳式温控器串联在干烧敏感区内。

本实用新型中，所述厚膜电阻层在厚膜介电层上形成电阻轨迹，所述电阻轨迹具有至少一对连接电源的接入端，所述电阻轨迹包括正常工作区和干烧敏感区，干烧敏感区内厚膜电阻轨迹宽度小于正常工作区内厚膜电阻轨迹宽度，突跳式温控器串联在干烧敏感区内。

本实用新型中，所述厚膜电阻层在厚膜介电层上形成电阻轨迹，所述电阻轨迹具有至少一对连接电源的接入端，所述接入端中至少其中一端与电源之间串接有突跳式温控器或者熔断体。

一种采用厚膜加热的食品加工机，包括加热容器，其特征在于：所述加热容器下部侧壁套设有导热基体，所述基体表面设有厚膜介电层，厚膜介电层上设有厚膜电阻层，厚膜电阻层具有至少一对连接电源的接入端，所述厚膜电阻层上设有绝缘层，所述导热基体的热膨胀系数不大于厚膜介电层、厚膜电阻层和绝缘层的热膨胀系数。

本实用新型中，所述导热基体设有沿其整个长度方向纵向槽，以便于将导热基体套设在加热容器下部侧壁；所述套热基体的内径小于加热容器的外径，以使得导热基体紧密的套设在加热容器下部侧壁。

本实用新型中，所述厚膜电阻层在厚膜介电层上形成电阻轨迹，所述电阻轨迹具有至少一对连接电源的接入端，电阻轨迹上串联有突跳式温控器。

本实用新型中，所述厚膜电阻层在厚膜介电层上形成电阻轨迹，所述电阻轨迹具有至少一对连接电源的接入端，所述电阻轨迹包括正常工作区和干烧敏感区，干烧敏感区内厚膜电阻轨迹宽度小于正常工作区内厚膜电阻轨迹宽度，突跳式温控器串联在干烧敏感区内。

本实用新型中，所述厚膜电阻层在厚膜介电层上形成电阻轨迹，所述电阻轨迹具有至少一对连接电源的接入端，所述接入端中至少其中一端与电源之间串接有突跳式温控器或者熔断体。

本实用新型通过在食品加工机加热容器下部侧壁直接或者间接设置厚膜，使得加热容器的加热接触面更大，加热更均匀，加热速度和热效率都有显著提高，避免了糊底等问题的出现，同时，加热容器外壁更加美观，占用空间更小，对食品加工机整体结构有显著的优化。

以下结合附图和具体实施方式来进一步说明本实用新型。

图1为本实用新型食品加工机加热容器第一种实施方式的结构示意图。

图1为本实用新型食品加工机加热容器第一种实施方式的结构示意图。

图2为本实用新型厚膜介电层、厚膜电阻层、绝缘层以及加热容器的径向剖视图。

图3为本实用新型食品加工机加热容器第二种实施方式的结构示意图。