[实用新型]芯片结构有效

专利信息
申请号: 201320000981.0 申请日: 2013-01-04
公开(公告)号: CN202996817U 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 王之奇;喻琼;王蔚 申请(专利权)人: 苏州晶方半导体科技股份有限公司
主分类号: H01L23/488 分类号: H01L23/488
代理公司: 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 代理人: 杨林洁
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 芯片 结构
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于半导体制造技术领域,具体涉及一种芯片结构。

背景技术

晶圆级芯片封装(Wafer Level Chip Size Packaging,WLCSP)技术是对整片晶圆进行封装测试后再切割得到单个成品芯片的技术,封装后的芯片尺寸与裸片一致。

晶圆级芯片顺应了市场对微电子产品日益轻、小、短、薄化和低价化要求。经晶圆级芯片封装技术封装后的芯片尺寸达到了高度微型化,芯片成本随着芯片尺寸的减小和晶圆尺寸的增大而显著降低。随着科技生活的发展,对单颗芯片的集成度要求日益增高,单颗芯片的外部焊垫数(即I/O数)也相应增多,导致单颗芯片尺寸相应增大,一整片晶圆上可供共同封装的单颗芯片颗数相应减少,导致生产单颗芯片的效率降低,生产单颗芯片的成本增加。

在现有技术中,一般是通过缩小焊垫尺寸来保证在晶圆上的单颗芯片的颗数,然而,缩小了焊垫尺寸会导致焊垫与导电线路电性连接的面积变小(现有技术中焊垫与导电线路的电连接面为切割焊垫后形成的切割面),降低了芯片的稳定性。

发明内容

为解决上述技术问题,本实用新型的目的在于提供一种芯片结构,该结构可在提高生产芯片效率、降低生产芯片成本的情况下,进一步保证芯片的稳定性。

为实现上述实用新型目的之一,本实用新型提供一种芯片结构,包括功能区,与所述功能区电性连接的多个焊垫,所述多个焊垫位于所述功能区之外,其中,所述多个焊垫中的至少部分焊垫上设有内壁为电连接面的内孔,所述电连接面的面积大于所述焊垫任意侧壁的面积。

作为本实用新型的进一步改进,所述多个焊垫仅设置于所述功能区的两相对侧。

作为本实用新型的进一步改进,所述焊垫的横截面为正方形。

作为本实用新型的进一步改进,每个焊垫上均设有内壁为电连接面的内孔。

作为本实用新型的进一步改进,所述内孔为贯穿所述焊垫的上表面和下表面的通孔。

与现有技术相比,本实用新型的芯片结构通过在与功能区电性连接的焊垫上形成内孔,使该内孔的内壁上形成可与导电线路电性连接的电连接面,从而在缩小焊垫尺寸,提高生产芯片效率、降低生产芯片成本的同时,保证了芯片与导电线路的电连接面面积,,保证芯片的稳定性。

附图说明

图1是本实用新型芯片结构一具体实施方式的结构示意图;

图2是本实用新型芯片结构的焊垫一实施方式的俯视图;

图3是图2所示的焊垫沿A-A’方向的剖视图;

图4是本实用新型芯片结构的焊垫另一实施方式的俯视图;

图5是图4所示的焊垫沿B-B’方向的剖视图;

图6是多个芯片结构在晶圆上的排布示意图;

图7是本实用新型芯片制造方法一具体实施方式的流程图。

具体实施方式

以下将结合附图所示的具体实施方式对本实用新型进行详细描述。但这些实施方式并不限制本实用新型,本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本实用新型的保护范围内。

如图1所示,在本实施方式中,该芯片结构10包括功能区12,以及与该功能区电性连接的多个焊垫13。所述多个焊垫13位于所述功能区之外的切割道中。所述焊垫包括上表面、下表面,以及连接所述上、下表面的侧壁。优选地,该焊垫的横截面为正方形,由于正方形的长宽相同,便可更好的平衡该芯片的横轴和纵轴上的尺寸。

如图2至图5所示,在本实用新型的一实施方式中,在多个焊垫中的至少部分焊垫13上设有内孔131,该内孔131的内壁133为电连接面132。

该电连接面132可电性连接导线线路,以通过导电线路连接所述芯片的输出端。所述电连接面的面积大于所述焊垫任意侧壁的面积。

优选地,在实施方式中,所述多个焊垫仅设置于所述功能区的两相对侧。每个焊垫上均设有该内孔131,所述内孔为贯穿所述焊垫的上表面和下表面的通孔。由于可控制该内孔131的大小,形成合适的电连接面132面积。使得该芯片结构可在缩小焊垫尺寸,降低芯片生产成本的同时保证芯片与导电线路的电连接面面积,保证芯片的稳定性;并且,通过将焊垫只设置于功能区的相对两侧,可进一步的缩小芯片面积,增加一片晶圆上形成的芯片颗数。

如图2、图3所示,该内孔131的横截面为圆形。

如图4、图5所示,该内孔131的横截面为矩形。

上述芯片结构中焊垫与焊垫之间的距离可相对现有技术保持不变,克服了缩小焊垫与焊垫间的距离造成的缩小了导电线路间的距离,加大了断路的可能性,提高了封装工艺的难度,增加了封装成本的缺陷。

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