[发明专利]用于提供电连接的设备和方法有效

专利信息
申请号: 201310757381.3 申请日: 2013-12-04
公开(公告)号: CN103855042B 公开(公告)日: 2016-11-30
发明(设计)人: R·佩尔策;M·施特纳德 申请(专利权)人: 英飞凌科技股份有限公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L21/68
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 刘金凤;胡莉莉
地址: 德国瑙伊比*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 提供 连接 设备 方法
【权利要求书】:

1.一种设备,包括:

沿纵向延伸的管;以及

在所述管中布置的中空通道,

其中所述管的端部被形成为使得在所述管中并在所述中空通道的外部沿纵向延伸的第一电磁辐射路径聚焦在第一焦点中。

2.根据权利要求1所述的设备,其中所述中空通道沿所述纵向延伸。

3.根据权利要求1所述的设备,其中所述中空通道限定沿纵向延伸的轴,并且所述第一焦点基本被布置在所述轴上。

4.根据权利要求1所述的设备,其中所述第一电磁辐射路径包括在所述管的端部处的反射或在所述管的端部处的折射。

5.根据权利要求1所述的设备,其中:

在所述管中并在所述中空通道的外部沿纵向延伸的第二电磁辐射路径聚焦在第二焦点中,

所述第一电磁辐射路径包括在所述管的端部处的反射,以及

所述第二电磁辐射路径包括在所述管的端部处的折射。

6.根据权利要求1所述的设备,其中所述管包括选自包含石英材料、ZnS、GaAs和蓝宝石的组的材料。

7.根据权利要求1所述的设备,其中所述中空通道的厚度在15和1000微米之间。

8.根据权利要求1所述的设备,进一步包括被配置为将所述管耦合至激光源的接口。

9.根据权利要求1所述的设备,进一步包括被配置为提供合成气体的单元。

10.根据权利要求1所述的设备,其中所述设备包括线结合器工具。

11.一种方法,包括:

提供沿纵向延伸的管,其中所述管包括被布置在所述管中的中空通道,所述管的端部被形成为使得在所述管中并在所述中空通道的外部沿纵向延伸的电磁辐射路径聚焦在焦点中;以及

提供电磁辐射,以使所述电磁辐射聚焦在所述焦点中。

12.根据权利要求11所述的方法,进一步包括:

将线插入所述中空通道中;以及

用聚焦的电磁辐射熔化所述线的一部分。

13.根据权利要求12的方法,进一步包括在所述线的熔化的部分和电接触元件之间提供接触。

14.根据权利要求11所述的方法,进一步包括提供合成气体。

15.根据权利要求14所述的方法,其中所述合成气体被提供通过所述中空通道。

16.根据权利要求14所述的方法,进一步包括将线插入所述中空通道中,其中所述合成气体的压力使所述线朝着所述焦点移动。

17.一种设备,包括:

沿纵向延伸的毛细管,其中所述毛细管的端部成斜面;以及

中空通道,其被布置在所述毛细管中并限定轴,

其中在所述毛细管的斜面端部处,在所述毛细管中并在所述中空通道的外部沿纵向延伸的电磁辐射路径被朝着所述轴引导。

18.根据权利要求17所述的设备,其中所述电磁辐射路径被通过反射和折射中的至少一个朝着焦点引导。

19.一种设备,包括:

半导体材料;

电接触元件,其包括第一材料并被布置在所述半导体材料的上方;以及

接合线,其包括第二材料并电耦合至所述电接触元件,其中所述第一材料和所述第二材料之间的过渡是连续的。

20.根据权利要求19所述的设备,其中所述第一材料和所述第二材料中的每一个包括金属或金属合金。

21.根据权利要求19所述的设备,其中所述第一材料和所述第二材料二者都包括铜。

22.根据权利要求19所述的设备,其中所述连续过渡包括固化结构。

23.根据权利要求19所述的设备,其中所述连续过渡包括多晶结构。

24.根据权利要求19所述的设备,进一步包括引线框或印刷电路板的另外的电接触元件,并且包括第三材料,其中所述接合线电耦合至所述另外的电接触元件,并且所述第一材料和所述第三材料之间的过渡是连续的。

25.一种方法,包括:

提供电磁辐射;

聚焦所述电磁辐射;

基于聚焦的电磁辐射熔化结合线和电接触垫中的至少一个;以及

在所述结合线和所述电接触垫之间提供电连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英飞凌科技股份有限公司,未经英飞凌科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310757381.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top