[发明专利]有源消声装置及光刻设备

说明书

技术领域

本发明涉及集成电路制造领域，尤其涉及一种有源消声装置及光刻设备。

背景技术

在集成电路（IC）的制造过程中，通常需要用到光刻设备。光刻设备是一种将所需图案应用到硅片上的设备。

请参考图1，所述光刻设备包括：基础框架100，设置于所述基础框架100上的照明装置210，设于所述基础框架100内部的掩模台310，设于所述掩模台310上的掩模300，设于所述掩模台310下方的主基板500，设于所述掩模台310正下方并与所述主基板500相固定的物镜200，设于所述主基板500上并位于所述物镜200一侧的干涉仪400，设于所述主基板500下方的测量装置900，设于所述基础框架100内并与所述主基板500相固定的减振器800以及设于所述基础框架100内的工件台600，所述工件台600用于承载硅片700，所述硅片700位于所述物镜200正下方。

光刻设备可以将所述掩模300的图案对应形成于所述硅片700的表面，作为单层的电路图案。具体的，所述照明装置210提供光线，光线经过所述掩模300，并将所述掩模300的图案经过所述物镜200照射至所述硅片700的表面，并与所述硅片700表面的化学物（例如光阻）进行反应，形成图案。

由于高精度和高分辨率作为光刻技术当前追求的目标，光刻设备的各部件之间的相互定位需要十分精确，例如保持图案形成装置（例如掩模）的掩模台310、投影系统和承载硅片700的工件台600。除了掩模台310和工件台600的定位外，投影系统也面临定位精准的需求。在当前光刻设备中的投影系统包括承载结构和光学元件，承载结构例如是透镜座架（用于检测透射光的情形）或反射镜框架（用于检测反射光的情形），光学元件例如是物镜200等。

在光刻设备中，噪声会对光刻设备内部环境产生影响，例如影响物镜200、干涉仪400以及主基板500等。噪声主要包括环境噪声、电气噪声、掩模台310以及工件台600的运动噪声。声噪载荷（Acoustics Load）定义为空气的压力随时间的变化作用在物镜200和主基板500等内部环境上的效应。若想要提高光刻设备的光刻精度以及分辨率，就必须将声噪载荷降低甚至消除。

传统的噪声控制方法对控制中高频噪声较为有效，而对低频噪声的控制效果不大。基于光刻设备中的噪声多为小于500Hz的低频噪声，ASML公司的专利US20090195763中提出了多种类型前馈式有源消声器，以用于降低噪声对光刻设备的影响。请参考图2，前馈式有源消声器包括传感器2000、控制系统3000以及扬声器4000；光刻设备内的工件台600、掩模台310等运动会产生初级噪声1000，会对投影系统产生影响。通过传感器2000探测系统气浴管道中的初级噪声1000，通过控制系统3000驱动扬声器4000，产生次级噪声5000，抵消初级噪声1000，降低气浴中初级噪声1000对待保护部件6000产生的影响。

然而，前馈式有源消声器消除声噪载荷的效果并不显著，若扬声器4000产生的次级噪声5000不能够大部分或者完全抵消初级噪声1000时，噪声依旧能够对待保护部件6000造成影响。

发明内容

本发明的目的在于提供一种有源消声装置及光刻设备，能够提高对光刻设备内部环境的降噪效果。

为了实现上述目的，本发明提出了一种有源消声装置，用于消除噪声源产生的初级噪声对待保护部件的影响，所述装置包括：

第一扬声器，用于产生与初级噪声发生干涉的次级噪声；

误差传感器，用于检测发生干涉后的剩余噪声作为剩余噪声信号；

控制单元，用于收集所述剩余噪声信号，并相应的控制所述第一扬声器发出次级噪声。

进一步的，在所述的有源消声装置中，所述有源消声装置还包括放大器，所述放大器用于将所述剩余噪声信号放大。

进一步的，在所述的有源消声装置中，所述控制单元为补偿滤波器，用于分辨待抑制剩余噪声的频段。

进一步的，在所述的有源消声装置中，所述有源消声装置还包括标准传感器，所述标准传感器用于检测初级噪声。

进一步的，在所述的有源消声装置中，所述控制单元包括：FIR滤波器、延时估计器以及计权修正装置；所述标准传感器用于检测初级噪声并将信号传送至所述延时估计器中，再由所述计权修正装置对信号进行相应的修改，并传输至所述FIR滤波器中，再由所述FIR滤波器将信号传送至所述第一扬声器中，由所述第一扬声器发出次级噪声。