[发明专利]一种液晶显示器的玻璃基板的曝光方法

权利要求书

1.一种液晶显示器玻璃基板的曝光方法，其特征在于，包括：

提供至少两个光掩膜板，所述每一光掩膜板包括有效区域及非有效区域，所述有效区域一侧包括有对应于玻璃基板拼接曝光区域的重叠区域，在所述有效区域的周围设置有多个对位精度测量检查标记；

将每一光掩膜板分别在单独的基准基板的相应位置上进行曝光，对所述光掩膜板上的多个对位精度测量检查标记进行测量，根据测量结果确定是否需要对所述曝光参数进行补正，获得每一光掩膜板准确的曝光参数以及位置信息；

将每一光掩膜板的准确的曝光参数进行合并，并将所述至少两个光掩膜板利用后并后的曝光参数依次在同一基板的根据所述位置信息在对应位置上进行曝光，获得曝光后的图案，其中，在每次曝光时，至少采用一挡板遮挡住所述光掩膜板重叠区域一侧的对位精度测量检查标记。

2.如权利要求1所述的一种液晶显示器玻璃基板的曝光方法，其特征在于，将每一光掩膜板分别在单独的基准基板的相应位置上进行曝光，对所述光掩膜板上的多个对位精度测量检查标记进行测量，根据测量结果确定是否需要对所述曝光参数进行补正，获得每一光掩膜板准确的曝光参数以及位置信息的步骤进一步包括：

将所述测量结果与设计的目标值进行比较，如果比较结果在误差允许的范围之内，则将所述光掩膜板当前的曝光参数作为其准确的曝光参数；

如果比较结果超出误差允许的范围，则对所述光掩膜板当前的曝光参数进行补正，重新进行曝光，直至所述比较结果在误差允许的范围之内，将所述光掩膜板此时的曝光参数作为其准确的曝光参数。

3.如权利要求2所述的一种液晶显示器玻璃基板的曝光方法，其特征在于，所述曝光后的图案包括对应于至少两个光掩膜板的至少两个曝光区，在相邻的两个曝光区之间形成有拼接曝光区。

4.如权利要求3所述的一种液晶显示器玻璃基板的曝光方法，其特征在于，所述玻璃基板为薄膜晶体管阵列基板或彩色滤光片基板。

5.如权利要求1至4任一项所述的一种液晶显示器玻璃基板的曝光方法，其特征在于，所述每一基准基板的尺寸与所述玻璃基板相同。

6.如权利要求5所述的一种液晶显示器玻璃基板的曝光方法，其特征在于，将每一光掩膜板分别在单独的基准基板的对应位置上进行曝光的步骤进一步包括：

在曝光后，对所述基准基板进行蚀刻以及去除光刻胶层的工艺。

7.如权利要求6所述的一种液晶显示器玻璃基板的曝光方法，其特征在于，将所述至少两个光掩膜板根据其对应的准确曝光参数，依次在同一基板的对应位置上进行曝光的步骤进一步包括：

在每次曝光前，将所述光掩膜板与玻璃基板进行对位。