[发明专利]离子注入装置及成膜装置

权利要求书

1.一种离子注入装置，具备：

第1～第3真空腔室，其依次排列配置；

传送部，在所述第1～第3真空腔室内传送包括基板的被传送物；

离子源，设置于所述第2真空腔室且朝向所述基板照射离子束；

卸载部，设置于所述第1真空腔室；及

堆积部，设置于所述第3真空腔室，

所述卸载部从堆积有多个被传送物的堆积体中卸载1个被传送物并通过所述传送部使该1个被传送物传送到所述第2真空腔室侧，

所述堆积部将从所述第2真空腔室侧传送的1个被传送物堆积多个而形成新的堆积体。

2.根据权利要求1所述的离子注入装置，其中，

所述卸载部及所述堆积部分别具有：

支承部，能够支承所述被传送物的底面；

升降驱动部，使所述支承部进行升降；及

旋转驱动部，通过所述升降驱动部进行所述支承部的升降时，在第1位置与第2位置之间使所述支承部移动，所述第1位置为所述支承部的升降轨道和所述被传送物不重叠的位置，所述第2位置为所述升降轨道和所述被传送物重叠的位置。

3.根据权利要求2所述的离子注入装置，其中，

所述旋转驱动部通过使所述支承部绕与所述升降轨道平行的轴旋转，从而使所述支承部在所述第1位置与所述第2位置之间移动。

4.根据权利要求3所述的离子注入装置，其中，

所述支承部具有呈以所述轴为中心的圆弧状的外形。

5.根据权利要求2～4中任一项所述的离子注入装置，其中，

所述传送部由多个辊构成，

所述支承部通过所述升降驱动部以通过所述多个辊中相邻的辊之间的方式进行升降。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的离子注入装置，其中，

所述被传送物为载置有所述基板的托盘，

所述卸载部从堆积有多个所述托盘的堆积体中卸载1个托盘而使该1个托盘通过所述传送部传送到所述第2真空腔室侧，

所述堆积部将从所述第2真空腔室侧传送的1个托盘堆积多个而形成新的堆积体。

7.一种成膜装置，具备：

第1～第3真空腔室，其依次排列配置；

传送部，在所述第1～第3真空腔室内传送包括基板的被传送物；

成膜构件，设置于所述第2真空腔室且在所述基板表面形成膜；

卸载部，设置于所述第1真空腔室；及

堆积部，设置于所述第3真空腔室，

所述卸载部从堆积有多个被传送物的堆积体中卸载1个被传送物并通过所述传送部使该1个被传送物传送到所述第2真空腔室侧，

所述堆积部将从所述第2真空腔室侧传送的1个被传送物堆积多个而形成新的堆积体。

8.根据权利要求7所述的成膜装置，其中，

所述卸载部及所述堆积部分别具有：

支承部，能够支承所述被传送物的底面；

升降驱动部，使所述支承部进行升降；及

旋转驱动部，通过所述升降驱动部进行所述支承部的升降时，在第1位置与第2位置之间使所述支承部移动，所述第1位置为所述支承部的升降轨道和所述被传送物不重叠的位置，所述第2位置为所述升降轨道和所述被传送物重叠的位置。

9.根据权利要求8所述的成膜装置，其中，

所述旋转驱动部通过使所述支承部绕与所述升降轨道平行的轴旋转，从而使所述支承部在所述第1位置与所述第2位置之间移动。

10.根据权利要求9所述的成膜装置，其中，

所述支承部具有呈以所述轴为中心的圆弧状的外形。

11.根据权利要求8～10中任一项所述的成膜装置，其中，

所述传送部由多个辊构成，

所述支承部通过所述升降驱动部以通过所述多个辊中相邻的辊之间的方式进行升降。

12.根据权利要求7～11中任一项所述的成膜装置，其中，

所述被传送物为载置有所述基板的托盘，

所述卸载部从堆积有多个所述托盘的堆积体中卸载1个托盘并通过所述传送部使该1个托盘传送到所述第2真空腔室侧，

所述堆积部将从所述第2真空腔室侧传送的1个托盘堆积多个而形成新的堆积体。