[发明专利]像素结构有效
申请号: | 201310739637.8 | 申请日: | 2013-12-27 |
公开(公告)号: | CN103744236A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
发明(设计)人: | 廖作敏 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343;G02F1/1362;G02F1/1368 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 像素 结构 | ||
1.一种像素结构,其特征在于,包括阵列基板(10)、彩膜基板(20)以及位于所述阵列基板(10)与彩膜基板(20)之间的液晶层(30),所述阵列基板(10)包括一第一基板(11)、配置于该第一基板(11)上的一数据线(12)及一扫描线(13)、以及一像素单元(14),所述像素单元(14)包括一薄膜晶体管(15)及一像素电极(16),所述薄膜晶体管(15)分别与数据线(12)、扫描线(13)及像素电极(16)电性连接,所述彩膜基板(20)包括一第二基板(21)及配置于该第二基板(21)上的公共电极(22),所述公共电极(22)与像素电极(16)具有一第一重叠部分(23),以形成该像素单元(14)的第一存储电容。
2.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,所述薄膜晶体管(15)具有一栅极、一源极及一漏极,所述栅极与扫描线(13)电性连接,所述源极与数据线(12)电性连接,所述漏极与像素电极(16)电性连接,所述漏极与像素电极(16)通过过孔(17)连接。
3.如权利要求2所述的像素结构,其特征在于,所述第一重叠部分(23)形成于该过孔(17)处。
4.如权利要求2所述的像素结构,其特征在于,所述像素电极(16’)包括一第一扇出部(18),该第一扇出部(18)设于与所述像素电极(16’)位于同一像素单元(14’)的薄膜晶体管(15)对角处,所述第一重叠部分(23’)由所述第一扇出部(18)与所述公共电极(22)构成,以形成该像素单元(14’)的第一存储电容。
5.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,所述像素单元(14’’)还具有一第二存储电容,所述像素电极(16’’)包括一第二扇出部(19),该第二扇出部(19)设于与像素电极(16’’)位于同一像素单元(14’’)的所述薄膜晶体管(15)对角处,该第二扇出部(19)与另一像素结构的扫描线(13)具有一第二重叠部分(23’’),以形成所述第二存储电容。
6.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,所述阵列基板(10)还包括:形成于第一基板(11)上的第一金属层(31)、形成于第一金属层(31)与第一基板(11)上的绝缘层(32)、形成于绝缘层(32)上的第二金属层(33)、形成于第二金属层(33)与绝缘层(32)上的保护层(34)、形成于保护层(34)上的第一透明导电层(35)、以及形成于第一透明导电层(35)上的第一配向膜(36)。
7.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,所述彩膜基板(20)还包括:形成于第二基板(21)上的第一黑色矩阵(41)与色素层(42)、形成于第一黑色矩阵(41)与色素层(42)上的第二透明导电层(43)、形成于第二透明导电层(43)上的间隙子(44)、以及形成于间隙子(44)与第二透明导电层(43)上的第二配向膜(45)。
8.如权利要求7所述的像素结构,其特征在于,所述色素层(42)包括:形成于第二基板(21)上的第二黑色矩阵(51)、形成于第二黑色矩阵(51)上的第一红色素层(52)、形成于第一红色素层(52)与第二黑色矩阵(51)上的第一绿色素层(53)、以及形成第一绿色素层(53)上的第一蓝色素层(54)。
9.如权利要求7所述的像素结构,其特征在于,所述色素层(42’)包括:形成于第二基板(21)上的第二红色素层(52’)、形成第二红色素层(52’)与第二基板(21)上的第二蓝色素层(54’)、以及形成于第二蓝色素层(54’)上的第二绿色素层(53’)。
10.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,所述第一基板(11)为玻璃基板或塑料基板,所述第二基板(21)为玻璃基板或塑料基板。
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