[发明专利]掩膜板，对其曝光的方法以及包括该掩膜板的液晶面板

权利要求书

1.一种掩膜板，在其上设置有多个图案区，所述多个画素区按照其尺寸从所述掩膜板的中心到边缘成梯度变换的方式而设置。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述多个图案区尺寸从所述掩膜板的中心到边缘逐渐增大或逐渐减小。

3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，相邻的尺寸不同的图案区尺寸之间的差值在0.3-0.8μm之间。

4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板为彩色滤光板，所述多个图案区均设置在所述彩色滤光板的显示单元内。

5.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板为阵列基板，所述多个图案区为电极。

6.一种液晶面板，其包括根据权利要求1到5中任一项所述的掩膜板。

7.一种对根据权利要求1到5中任一项所述的掩膜板曝光的方法，包括以下步骤，

步骤一：水平地设置曝光罩，并检测其形变度；

步骤二：在掩膜板上设置多个图案区，并且所述多个图案区根据所述曝光罩的形变度以从所述掩膜板的中心到边缘成梯度变换的方式而设置；

步骤三：完成掩膜板曝光。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在所述步骤二中，所述相邻的图案区尺寸之间的差值与光从所述曝光罩到所述掩膜板的光程差相匹配。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在所述步骤二中，当所述曝光罩的中心距离所述掩膜板较远而边缘距离所述掩膜板较近时，所述多个图案区尺寸从所述掩膜板的中心到边缘逐渐减小。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在所述步骤二中，当所述曝光罩的中心距离所述掩膜板较近而边缘距离所述掩膜板较远时，所述多个图案区尺寸从所述掩膜板的中心到边缘逐渐增大。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，相邻的图案区尺寸之间的差值在0.3-0.8μm之间。