[发明专利]一种水晶灯挂件玻璃的制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种水晶灯挂件玻璃的制作方法。

背景技术

现有的水晶灯挂件玻璃的制作方法工艺复杂，而且生产出的水晶灯挂件玻璃产品在使用过程中容易磨损或腐蚀，而且使用一段时间后，表面会堆积灰尘之类的污垢，使得水晶灯挂件玻璃不再晶莹透彻。影响使用效果。

故此，现有的水晶灯挂件玻璃的制作方法有待于进一步完善。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术中的不足之处，提供一种工艺简单，生产出的产品耐磨损或耐腐蚀，能自洁的水晶灯挂件玻璃的制作方法。

为了达到上述目的，本发明采用以下方案：

一种水晶灯挂件玻璃的制作方法，其特征在于包括以下步骤：

A、将已成型的水晶灯挂件清洗后，放入磁控溅射托盘，然后送入镀膜机；

B、采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射不锈钢平面靶，在水晶挂件上磁控溅射一SSTOx层；

C、采用氮气作为反应气体，直流电源溅射铬平面靶，在SSTOx层上磁控溅射一氮化铬薄膜层；

D、采用氧气作为反应气体，交流电源溅射锌锡靶，在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层；

E、采用氧气作为反应气体，交流电源溅射钛靶，在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层。

如上所述的一种水晶灯挂件玻璃的制作方法，其特征在于步骤A中水晶灯挂件的清洗具体包括：将成型的水晶灯挂件放在丙酮中超声清洗10分钟后，再用乙醇超声清洗10分钟，最后在去离子水中超声清洗10分钟。

如上所述的一种水晶灯挂件玻璃的制作方法，其特征在于步骤B中所述SSTO_x层的厚度为30～45nm，氩气与氧气的体积比为1：2，溅射功率为75～115KW，分两个阴极溅射。

如上所述的一种水晶灯挂件玻璃的制作方法，其特征在于步骤C中氮化铬薄膜层的厚度为3～5nm，氩气与氮气的体积比为1:2，直流电源溅射功率3～6KW。

如上所述的一种水晶灯挂件玻璃的制作方法，其特征在于步骤D中氧化锌锡层的厚度为10～20nm，ZnSn合金旋转靶中Zn与Sn的摩尔比为48:52，氩气与氧气的体积比为1:2，所述交流电源的溅射功率为30～45KW。

如上所述的一种水晶灯挂件玻璃的制作方法，其特征在于步骤E氧化钛层的厚度为10～20nm，氩气与氧气的体积比为1:2，所述交流电源的溅射功率为30～45KW。

综上所述，本发明相对于现有技术其有益效果是：

本发明工艺简单，加工方便，制作出的水晶灯挂件玻璃耐磨损、耐腐蚀；本发明产品利用TiO₂的光催化效果来达到自清洁的目的，使用效果好。本发明方法制作的水晶灯挂件，呈金黄色，有24K金效果，且透光，具有良好的视觉效果。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本发明作进一步描述：

实施例1

一种水晶灯挂件玻璃的制作方法，包括以下步骤：

A、将已成型的水晶灯挂件清洗后，放入磁控溅射托盘，然后送入镀膜机；其中水晶灯挂件的清洗具体包括：将成型的水晶灯挂件放在丙酮中超声清洗10分钟后，再用乙醇超声清洗10分钟，最后在去离子水中超声清洗10分钟；

B、采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射不锈钢平面靶，在水晶挂件上磁控溅射一SSTOx层；其中所述SSTO_x层的厚度为30nm，氩气与氧气的体积比为1：2，溅射功率为75KW，分两个阴极溅射；

C、采用氮气作为反应气体，直流电源溅射铬平面靶，在SSTOx层上磁控溅射一氮化铬薄膜层；其中氮化铬薄膜层的厚度为3nm，氩气与氮气的体积比为1:2，直流电源溅射功率3KW；

D、采用氧气作为反应气体，交流电源溅射锌锡靶，在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层；其中氧化锌锡层的厚度为10nm，ZnSn合金旋转靶中Zn与Sn的摩尔比为48:52，氩气与氧气的体积比为1:2，所述交流电源的溅射功率为30KW；

E、采用氧气作为反应气体，交流电源溅射钛靶，在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层；其中氧化钛层的厚度为10nm，氩气与氧气的体积比为1:2，所述交流电源的溅射功率为30KW。

实施例2

一种水晶灯挂件玻璃的制作方法，包括以下步骤：