[发明专利]OLED显示器件及其制备方法、OLED显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种OLED显示器件及其制备方法、OLED显示装置。

背景技术

有机电致发光器件（OLED）以其宽视角、低功耗、高响应、高亮度和低成本等优点而有望成为替代TFT-LCD的下一代显示技术。虽然OLED在实验室的研发技术已经比较成熟，但在量产应用中还存在一些大问题。其中一个极其重要的课题之一便是其使用寿命。众所周知，OLED是一种对水汽和氧气极其敏感的显示器件，特别是水汽，如果环境中渗透进去水氧，就容易在发光区域造成黑点，且黑点会随着时间延长而扩大。目前主要通过对OLED进行封装，主要包括金属盖和玻璃盖等盖板封装技术，及以Vitex Systems公司开发的Barix薄膜封装层为代表的薄膜封装技术。但这些现有技术要么表面不易平整（如金属盖板），容易产生微裂缝（如玻璃盖板），要么成本高，制作工艺复杂（如Barix薄膜封装技术）。因此在OLED抗水氧方面尚需进一步探索新型结构和技术。

发明内容

（一）要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是如何消除外界环境中水氧对OLED使用寿命的影响。

（二）技术方案

为了解决上述技术问题，本发明提供一种OLED显示器件，包括：衬底层、阳极层、空穴注入层、空穴传输层、发光材料层、电子传输层、电子注入层、阴极层和封装层，所述空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和/或电子注入层中掺杂有吸水有机物和吸氧有机物。

其中，所述空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层，每一层中所掺杂的吸水有机物和吸氧有机物的质量和不超过该层总质量的千分之一。

其中，所述吸水有机物为铝基复合物，吸氧有机物为抗坏血酸及其衍生物。

其中，所述空穴注入层由F4TCNQ、TCNQ、PPDN、CuPC、或TiOPC形成。

其中，所述空穴传输层由F4TCNQ、TCNQ、PPDN、CuPC、TiOPC、或TCTA形成。

其中，所述电子传输层由BCP、Bphen、TPBi、Alq3、Liq、Nbphen、或TAZ形成。

其中，所述电子注入层由LiF、LiBq4、或Alq3:Li3N形成。

本发明还提供了一种OLED显示装置，包括上述任一所述的OLED显示器件及驱动电路。

本发明进一步提供了一种OLED显示器件制备方法，包括以下步骤：形成衬底层的步骤、形成阳极层的步骤、形成空穴注入层的步骤、形成空穴传输层的步骤、形成发光材料层的步骤、形成电子传输层的步骤、形成电子注入层的步骤、形成阴极层的步骤以及形成封装层的步骤，其中，还包括在所述空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和/或电子注入层中或者在用于形成所述空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和/或电子注入层的材料中掺杂吸水有机物和吸氧有机物的步骤。

其中，所述空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层每一层中所掺杂的吸水有机物和吸氧有机物的质量和不超过该层总质量的千分之一。

（三）有益效果

上述技术方案所提供的OLED显示器件及其制备方法和OLED显示装置，在空穴注入层、空穴传输层和电子注入层、电子传输层中掺杂微量的吸水、吸氧有机物，其中吸水有机物会优先和水汽反应，消耗掉装置内的水汽。而其中的吸氧有机物由于其还原性强，容易被氧化，会优先和氧气反应，消耗侵入的微量氧气，从而使得环境中侵入的微量水氧不会进入到发光材料层，避免了在发光区域产生黑点等不良，提高了显示质量和显示寿命。同时，也保护了其他有机功能层，有效避免了水氧的侵蚀，从而有效提高了OLED显示器件的寿命。

附图说明

图1是本发明实施例OLED显示器件的结构示意图。

其中，1：衬底基板；2：阳极层；3：空穴注入层；4：空穴传输层；5：发光材料层；6：电子传输层；7：电子注入层；8：阴极层；9：薄膜层。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。