[发明专利]一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示屏及显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示屏及显示装置。

背景技术

液晶显示屏主要由彩膜基板、阵列基板以及位于该两基板之间的液晶层组成。其中，在彩膜基板面向液晶层的一侧设置有黑矩阵和彩膜层等，公共电极可以位于彩膜基板面向液晶层的一侧，即扭转向列（TN）型液晶显示屏，也可以位于阵列基板面向液晶层的一侧，即高级超维场开关（ADS）型液晶显示屏。

以TN型液晶显示屏为例，如图1所示，彩膜基板包括：衬底基板101，以及位于衬底基板101上的黑矩阵102和彩膜层103，由于黑矩阵102与彩膜层103之间存在较大的厚度差异，会使形成于黑矩阵102和彩膜层103上的取向层（图1中未示出）的表面不平坦，这样在对取向层进行摩擦处理后，会使取向层存在摩擦不均匀的现象，从而导致摩擦色差问题，并且，取向层表面不平坦还会造成与取向层相接触的液晶的流动性较差，从而产生按压色差问题。

同理，ADS型液晶显示屏也会存在上述问题，虽然ADS型液晶显示屏通过在彩膜层与取向层之间增加一层涂覆层，可以增加彩膜基板上取向层表面的平坦度，但是，这样会增加制作工序，增大生产成本，并且，增加的涂覆层还会使ADS型液晶显示屏的透过率下降。

因此，如何保证彩膜基板上取向层表面的平坦度，是本领域技术人员亟需解决的技术问题。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示屏及显示装置，用以保证彩膜基板上取向层表面的平坦度。

因此，本发明实施例提供了一种彩膜基板，包括：衬底基板，位于所述衬底基板上的多个黑矩阵和多个彩膜层；

所述黑矩阵设置于各相邻的所述彩膜层之间的间隙处，且每个所述黑矩阵与相邻的所述彩膜层均具有交叠区域；

所述黑矩阵位于相邻的所述彩膜层之间的间隙处的厚度大于与相邻的所述彩膜层的交叠区域的厚度，且小于或等于所述彩膜层的厚度。

本发明实施例提供的上述彩膜基板，由于将黑矩阵设置在各相邻的彩膜层之间的间隙处，每个黑矩阵位于相邻的彩膜层之间间隙处的厚度最大，且小于或等于彩膜层的厚度，这样减小了彩膜层与黑矩阵之间的厚度差异，增加了位于彩膜层和黑矩阵上的取向层表面的平坦度，增大了液晶的流动性，改善了按压色差和摩擦色差问题，并且，每个黑矩阵与相邻的彩膜层均具有交叠区域，还能避免混色的问题。

较佳地，为了增加整层取向层表面的平坦度，并简化制作工艺，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，各所述黑矩阵的结构均相同。

具体地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，各所述黑矩阵与相邻的所述彩膜层的交叠区域具有阶梯型结构。

较佳地，为了增加取向层表面的平坦度，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，各所述黑矩阵与相邻的所述彩膜层的交叠区域具有至少两层阶梯的阶梯型结构。

进一步地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，还包括：位于所述彩膜层和所述黑矩阵上的公共电极。

本发明实施例还提供了一种液晶显示屏，包括本发明实施例提供的上述彩膜基板。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述液晶显示屏。

针对本发明实施例提供的上述彩膜基板的实施方式，本发明实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法，包括：

在衬底基板上采用半色调或灰色调掩膜板形成包括黑矩阵的图形；

在形成有所述黑矩阵的图形的衬底基板上形成包括彩膜层的图形。

具体地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述在衬底基板上采用半色调或灰色调掩膜板形成包括黑矩阵的图形，具体包括：

在衬底基板上形成黑矩阵薄膜；

利用半色调或灰色调掩膜板对所述黑矩阵薄膜进行曝光处理，其中，所述半色调或灰色调掩膜板的完全遮光区域对应于所述黑矩阵位于各相邻的所述彩膜层之间的间隙处的部分；所述半色调或灰色调掩膜板的部分遮光区域对应于所述黑矩阵与相邻的所述彩膜层的交叠区域；

对经过曝光后的所述黑矩阵薄膜进行显影处理，得到所述黑矩阵的图形。

进一步地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述在形成有所述黑矩阵的图形的衬底基板上形成包括彩膜层的图形之后，还包括：

在所述彩膜层和所述黑矩阵上形成包括公共电极的图形。

附图说明

图1为现有技术中彩膜基板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意图之一；