[发明专利]一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示屏及显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板，包括：衬底基板，位于所述衬底基板上的多个黑矩阵和多个彩膜层，其特征在于；

所述黑矩阵设置于各相邻的所述彩膜层之间的间隙处，且每个所述黑矩阵与相邻的所述彩膜层均具有交叠区域；

所述黑矩阵位于相邻的所述彩膜层之间的间隙处的厚度大于与相邻的所述彩膜层的交叠区域的厚度，且小于或等于所述彩膜层的厚度。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，各所述黑矩阵的结构均相同。

3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，各所述黑矩阵与相邻的所述彩膜层的交叠区域具有阶梯型结构。

4.如权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，各所述黑矩阵与相邻的所述彩膜层的交叠区域具有至少两层阶梯的阶梯型结构。

5.如权利要求1-4任一项所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：位于所述彩膜层和所述黑矩阵上的公共电极。

6.一种液晶显示屏，其特征在于，包括如权利要求1-5任一项所述的彩膜基板。

7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求6所述的液晶显示屏。

8.一种如权利要求1-5任一项所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上采用半色调或灰色调掩膜板形成包括黑矩阵的图形；

在形成有所述黑矩阵的图形的衬底基板上形成包括彩膜层的图形。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述在衬底基板上采用半色调或灰色调掩膜板形成包括黑矩阵的图形，具体包括：

在衬底基板上形成黑矩阵薄膜；

利用半色调或灰色调掩膜板对所述黑矩阵薄膜进行曝光处理，其中，所述半色调或灰色调掩膜板的完全遮光区域对应于所述黑矩阵位于各相邻的所述彩膜层之间的间隙处的部分；所述半色调或灰色调掩膜板的部分遮光区域对应于所述黑矩阵与相邻的所述彩膜层的交叠区域；

对经过曝光后的所述黑矩阵薄膜进行显影处理，得到所述黑矩阵的图形。

10.如权利要求8或9所述的方法，其特征在于，所述在形成有所述黑矩阵的图形的衬底基板上形成包括彩膜层的图形之后，还包括：

在所述彩膜层和所述黑矩阵上形成包括公共电极的图形。