[发明专利]一种彩膜基板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种彩膜基板及其制造方法。

背景技术

随着显示装置的各项指标提升，消费者对于显示装置的分辨率要求越来越高，边框要求越来越窄，以获取更加好的观看效果。与此同时，显示装置边框金属走线的密度也越来越高，特别是使用了阵列基板上栅极驱动(GOA，gate driver on array)技术之后，金属层的宽度增加，密度也越来越高。

图1示出了现有的显示面板封框胶固化的示意图。如图1所示，紫外光从阵列基板11边缘侧照射，由于阵列基板11上的金属层13的遮挡，只有少部分光线通过金属层13间的缝隙，并穿过封框胶14和取向层16直到彩膜基板12上的黑矩阵层15而被吸收。封框胶14中的紫外反应成分被紫外光照射后反应固化，但是被金属层13遮挡部位的封框胶中的紫外反应成分往往无法完全反应，导致固化强度不足，还会导致产品出现剥离、屏幕抗压能力下降、以及封框胶14中的紫外光反应成分无法完全反应所致的液晶污染等等不良发生。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是显示面板的封框胶中的紫外光反应成分无法完全反应的问题。

为此目的，本发明提出了一种彩膜基板，包括：多个凸起物，形成在所述彩膜基板边缘将要涂覆封框胶的区域内的所述彩膜基板上；反射层，覆盖所述多个凸起物，且位于所述彩膜基板边缘将要涂覆封框胶的区域内。

优选地，在所述多个凸起物与所述彩膜基板之间还包括黑矩阵层。

优选地，所述凸起物的材料为树脂材料、氧化硅或氮化硅中的至少一种。

优选地，所述凸起物与所述黑矩阵层是一体形成的。

优选地，所述凸起物为半球形。

优选地，所述凸起物的直径为3至15μm，所述凸起物之间的间隔为3至15μm。

优选地，所述凸起物的位置与所述彩膜基板面对的阵列基板上的金属层之间的间隙相对。

本发明还提出了一种制造彩膜基板的方法，包括：在基板上依次形成黑矩阵层和光刻胶层；采用半色调掩膜板或灰色调掩膜板来对所述光刻胶层进行曝光；对曝光后的所述光刻胶层进行显影；在显影工艺之后对所述黑矩阵层进行蚀刻；在蚀刻后的黑矩阵层图形上形成反射层。

优选地，所述蚀刻后的黑矩阵层图形是多个半球形凸起物。

优选地，所述蚀刻后的黑矩阵层图形和所述反射层位于所述彩膜基板边缘将要涂覆封框胶的区域内。

通过采用本发明所公开的彩膜基板及其制造方法，能够使封框胶中的紫外光反应成分充分反应，提高封框胶的固化效率，从而提升固化强度和屏幕抗压能力。

附图说明

通过参考附图会更加清楚的理解本发明的特征和优点，附图是示意性的而不应理解为对本发明进行任何限制，在附图中：

图1示出了现有的显示面板封框胶固化的示意图；

图2示出了根据本发明实施例的彩膜基板边缘部分的示意图；

图3示出了根据本发明实施例的彩膜基板上的凸起物的示意图；

图4示出了根据本发明实施例的显示面板封框胶固化的示意图；

图5A至5D示出了根据本发明实施例的彩膜基板的制造方法的示意图；

图6A至6D示出了根据本发明实施例的彩膜基板的另一制造方法的示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明的实施例进行详细描述。

为了解决显示面板边框胶固化过程中，封框胶中的紫外反应成分无法完全反应的问题，本发明对显示面板的彩膜基板进行了改进。图2示出了根据本发明实施例的彩膜基板边缘部分的示意图。如图2所示，根据本发明实施例的彩膜基板边缘部分包括基板21、形成在基板21上的黑矩阵层22、形成在黑矩阵层22上的凸起物23、以及覆盖凸起物23的反射层24，其中凸起物23和反射层24形成在彩膜基板边缘将要涂覆封框胶的区域内。

图3示出了根据本发明实施例的彩膜基板上的凸起物的示意图。如图3所示，凸起物位于彩膜基板的边缘部分，优选地为半球型，凸起物的直径优选地为3至15μm，凸起物之间的间隔优选地为3至15μm，凸起物可以规则排列或者也可以不规则排列。本领域技术人员应当理解，凸起物并不限于为半球形，也可以选用其他任何适当的形状，凸起物的直径和间隔也可以根据实际情况而选用合适的值。