[发明专利]一种彩膜基板及其制造方法在审
| 申请号： | 201310700532.1 | 申请日： | 2013-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN103676339A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 陈俊生 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1339 | 分类号： | G02F1/1339;G02F1/1335;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李迪 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 彩膜基板 及其 制造 方法 | ||
1.一种彩膜基板，包括：
多个凸起物，形成在所述彩膜基板边缘将要涂覆封框胶的区域内的所述彩膜基板上；
反射层，覆盖所述多个凸起物，且位于所述彩膜基板边缘将要涂覆封框胶的区域内。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，在所述多个凸起物与所述彩膜基板之间还包括黑矩阵层。
3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，所述凸起物的材料为树脂材料、氧化硅或氮化硅中的至少一种。
4.根据权利要求2所述的彩膜基板，其中，所述凸起物与所述黑矩阵层是一体形成的。
5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，所述凸起物为半球形。
6.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，所述凸起物的直径为3至15μm，所述凸起物之间的间隔为3至15μm。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的彩膜基板，其中，所述凸起物的位置与所述彩膜基板面对的阵列基板上的金属层之间的间隙相对。
8.一种制造彩膜基板的方法，包括：
在基板上依次形成黑矩阵层和光刻胶层；
采用半色调掩膜板或灰色调掩膜板来对所述光刻胶层进行曝光；
对曝光后的所述光刻胶层进行显影；
在显影工艺之后对所述黑矩阵层进行蚀刻；
在蚀刻后的黑矩阵层图形上形成反射层。
9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述蚀刻后的黑矩阵层图形是多个半球形凸起物。
10.根据权利要求8所述的方法，其中，所述蚀刻后的黑矩阵层图形和所述反射层位于所述彩膜基板边缘将要涂覆封框胶的区域内。
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