[发明专利]冷却装置以及真空蒸镀设备有效

专利信息
申请号: 201310684824.0 申请日: 2013-12-13
公开(公告)号: CN103668083B 公开(公告)日: 2016-10-19
发明(设计)人: 焦志强;孙力 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 冷却 装置 以及 真空 设备
【说明书】:

技术领域

发明涉及冷却系统,尤其涉及一种冷却装置以及真空蒸镀设备。

背景技术

作为OLED显示装置制备过程中的一种重要制备设备,真空蒸镀设备用于在真空环境中,将材质加热蒸镀到基底上。因此,真空蒸镀设备其使用效率会对OLED显示装置的制备工艺正常运转产生影响。

通常来说,以现有真空蒸镀设备为例,其蒸镀过程可描述为将待成膜的材质至于真空环境中并进行加入,从而令待成膜的材质蒸发或升华,进而在基底表面生长成膜结构。因此,现有技术真空蒸镀设备在完成一次蒸镀工艺后,通常需要较长时间等待蒸发源自然冷却至室温,而后才可以打开真空室进行更换材质填料等动作,并进行下一次蒸镀工艺。

然而,发明人发现现有技术中至少存在如下问题:由于现有技术真空蒸镀设备在完成一次蒸镀工艺后需要等待蒸发源自然冷却,待蒸发源自然冷却至室温后才可以开启真空室,而现有的蒸发源自然冷却的冷却效率较低,需要耗费较长时间,最终会引起真空蒸镀设备使用效果低下。

发明内容

本发明的实施例提供一种冷却装置以及真空蒸镀设备,可以加速真空蒸镀设备蒸发源的冷却过程,减少真空蒸镀设备冷却所需时间,有效提高真空蒸镀设备的使用效率。

为解决上述技术问题,本发明的实施例采用如下技术方案:

一种冷却装置,用于冷却真空蒸镀设备的蒸发源,所述冷却装置包括:

若干个冷却单元;

驱动单元,用于通过支架驱动所述冷却单元包覆所述蒸发源;

设置于所述冷却单元内部的冷却管,所述冷却管包括至少一个冷却液进料口以及至少一个冷却液出料口。

优选的,所述冷却管在所述冷却单元内部的排布形状呈Z字形。

优选的,所述冷却管在所述冷却单元内部的排布形状呈U字形、圆环形、锯齿形中的任意一种或几种。

进一步的,所述冷却装置还包括:制冷压缩机,所述制冷压缩机用于向所述冷却管内压入冷却液。

进一步的,所述冷却液包括冷却水、液态二氧化碳、乙醇中的任意一种或几种。

另一方面,本发明实施例还提供了一种真空蒸镀设备,包括上述所述的冷却装置。

本发明实施例提供的一种冷却装置以及真空蒸镀设备,其中冷却装置中设置有冷却单元、驱动单元以及设置于冷却单元内部的冷却管。在真空蒸镀设备完成蒸镀工艺后,驱动冷却单元包覆蒸发源,从而加速真空蒸镀设备的冷却过程,提高该真空蒸镀设备的使用效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种冷却装置的结构示意图;

图2为本发明实施例冷却装置中冷却管的排布示意图之一;

图3为本发明实施例冷却装置中冷却管的排布示意图之二。

具体实施方式

本发明实施例提供的一种冷却装置以及真空蒸镀设备,可以加速真空蒸镀设备蒸发源的冷却过程,减少真空蒸镀设备冷却所需时间,有效提高真空蒸镀设备的使用效率。

以下描述中,为了说明而不是为了限定,提出了诸如特定系统结构、接口、技术之类的具体细节,以便透切理解本发明。然而,本领域的技术人员应当清楚,在没有这些具体细节的其它实施例中也可以实现本发明。在其它情况中,省略对众所周知的装置、电路以及方法的详细说明,以免不必要的细节妨碍本发明的描述。

下面结合下述附图对本发明实施例做详细描述。

本发明的实施例提供一种冷却装置,如图1所示,该冷却装置包括至少一个冷却单元1、用于驱动冷却单元1的驱动单元(图1中未示出)以及设置于冷却单元1内部的冷却管2。需要说明的是,举例而言,驱动单元可通过导轨以及支架驱动冷却单元1的位置移动,其具体驱动方式可由技术人员根据蒸发源10与冷却单元1的配合情况来决定。

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